
发表于没渗:2012年06月21日 15:52 转发 1
原文地址:
ENVI利用矢量对遥感影像掩膜
作者:
凯歌
1、准备好矢量和待掩膜的影像,ENVI不支持将线状的矢量转换为面状的掩膜,线状矢量转换为只能转换成线状的ROI,面历芹状的矢量可以直接转换为面状ROI。要对影像的一个区域淹膜,所以这里矢量这里需要面文件。确保影像与矢量能够叠加,如果不能叠加,需要将影像与矢量进行配准。
2、将矢量数据转换为ROI:
(1)使用Vector->Open Vector打开矢量数据;
(2)在Vector显示窗口中的文件菜单下选择Export Active Layer to ROIs
幻灯播放
3)选择与ROI对应的文件;
(4)选择每条记录生成一个ROI;
(5)在在主图像窗口里点击右键,选择 ROI TOOLS,选择Save RoIs保存转换的ROI;
(6)对于线状的ROI,可以事先将线状的ROI转换为面状ROI再导入ENVI,或者根据我们编的程序将线状的ROI转换为面状ROI。
3、使用ROI生成掩膜
(1)在ENVI的菜单下选择Basic ToolsàMaskingàBuild Mask
(2)选择需要进行掩膜的影像
(3)在掩膜定义窗口中,在肢察毕Options下选择Import ROIs,然后选择前面生成的面状ROI。
(4)设置ROI的类型,在Options菜单下通过设置Selected Areas ‘off’或是’On’来设定ROI的类型。例如前面的ROI包含的是陆地,而我需要对陆地掩膜就可以将Selected Area设置为’Off’。
(5)生成掩膜
点击Apply,输入掩膜文件保存的位置,生成掩膜文件。
4、应用掩膜
(1)在Basic Tools下选择MaskingàApply Mask,首先选择需要进行掩膜的文件,然后在选择文件的对话框中选择Select Mask Band,在d出的对话框中选择前面生成的掩膜文件。
(2)最后输出结果保存。
效果图如下图,在输出的过程中可以将背景设置为白色或者其他颜色。
假如一个单片机8为寄存器SFR_MODE里面,第0位代表MODE0,第1为代表MODE1,第2为代氏禅纳表MODE2.....那么可以设置
#define MODE0 0x01
#define MODE1 0x02
#define MODE2 0x04
#define MODE3 0x08
程序中幅值时,假如要设置模式0和模式2为1,其他为0,正常幅值应该是用户算出SFR_MODE的内容应该是0x05,再用代码SFR_MODE = 0x05赋歼没值.
采用掩膜选袭基项设置就可以写成SFT_MODE = 0初始化,
SFR_MODE = MODE0|MODE2
这样写出的代码,可以直观的看到寄存器内容的含义。
MASK(掩膜):单片机掩膜是指程序数据已经做成光刻版,在单片机生产的过程中把程序做进去。优点是:程序可靠、成本低。缺点:批量要求大,每次修改程序就需要重新做光刻板,不同程序不能同时生产,供丛老货周期长。在半导册郑罩体制造中,州闹许多芯片工艺步骤采用光刻技术,用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜(也称作“掩模”),其作用是:在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖,继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
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