
掺杂(英语:doping)是
半导体制造工艺中,为纯的本征半导体引入
杂质,使之电气属性被改变的过程。引入的杂质与要制造的半导体种类有关。轻度和中度
掺杂的半导体被称作是杂质半导体,而更重度掺杂的半导体则需考虑费米统计律带来的影响,这种情况被称为简并半导体。Ef本身和温度有关,看图是热平衡状态下,书上有Ef关于T的图,只有在低温弱电离区Ef会有向上再向下的变化,其余情况都是与T成反比,至于你说的n0增大看Ef是离导带近前提是T不变,T增大,导带底有效状态密度增大,可以从供求关系来理解,打字不易,希望有益半导体的杂质对半导体的物理性质的影响,主要影响是自由电子和空穴数量的精确控制。简单说,杂质越多,说明物理材料中的自由电子和空穴精确控制就越差,差可以导致两个物理指标下降:1.杂散电流随环境温度增加而增加;2.PN结的耐压程度和温度系数变劣。
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