在集成电路领域，特征尺寸是指半导体器件中的最小尺寸。在CMOS工艺中，特征尺寸典型代表为“栅”的宽度，也即MOS器件的沟道长度。一般来说，特征尺寸越小，芯片的集成度越高，性能越好，功耗越低。特征尺寸（沟道长度）的缩小虽然有明显的好处，但是

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手机和平板电脑可以像报纸一样卷起来，隐形眼镜中集成的屏幕能够直接读取信息......这些听起来非常科幻的场景，在新型二维材料的推动下，正不断趋于现实。二维材料 是一种具有单个或几个原子层厚度的新型晶体材料，目前已经发展成

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GLI 基因 别名 GLI1 基因表达物 神经胶质瘤致病因子 定位 12q13.2-q13.3 概述 GLI (glioma-associated oncogene homolog )，1987年Kinzler K.W 等人发现与人类神经胶

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