半导体镀膜工艺是什么

镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD：物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材（金靶，铜靶，Al，Cr.....），金属原子脱离靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化学气相沉积。这个是通过化学反应，在晶圆表面张氧化薄膜。

自洁玻璃在浴室的应用

在日常生活中，清洗玻璃也算是一件既费时又费力的事情，而且有些高层建筑的玻璃需要请专业的工作人员来清洗，还存在一定的危险性。无须人工清洗的自洁玻璃的出现，相信可以解决这些难题。

中国某所大学经过10年的辛勤研究，终于有了成果，一种无须人工清洗的自洁玻璃已经研制成功了。

多年前，这所大学就开始了对玻璃自洁的研究。经过不断的实验他们发现，有一种半导体材料，它有一种非常奇异的特性，那就是自洁的特性。这种半导体材料，在阳光的照射下会产生自由电子“空穴对”，它可以将附着在上面的有机物质分解掉。同时，这种材料还具有非常强的“亲水性”，把水洒在上面，水就会在材料的表面迅速的扩散开来，而且还不容易形成水珠，这样就可以将大量的尘土等无机物冲走。

根据这个原理，研究人员将这种半导体材料制成了“玻璃镀膜”。经过实验证明，把“玻璃镀膜”镀在普通玻璃的表面，在阳光的照射下，玻璃就能够把油污、动物粪便及各种微生物等分解掉，如果再经过雨水的冲刷后，洁净度会有更明显的提高。

自洁玻璃的出现，在高层建筑、汽车、光学仪器等方面有非常突出的应用优势，顺应了建材生态化的国际潮流。这种自洁玻璃如果批量的生产，投放市场，将会使现代人的生活变得更加的舒适便捷。

自洁玻璃的研制成功，使中国在玻璃科学与技术方面达到了国际先进的水平。中国还成立了国际玻璃研究中心，以求构建中国在玻璃科学技术领域一流的产学研基地。

自洁玻璃的出现，让人们的现代生活变得更加科技化、智能化，是人类智慧的结晶。

镀膜是半导体及光学工业中最为重要的工艺之一.这里会总体归纳各类镀膜/薄膜工艺,从原理上了解这些工艺的异同.

简介

镀膜指在基材上形成从数纳米到数微米的材料层,材料可以是金属材料、半导体材料、以及氧化物氟化物等化合物材料.镀膜的工艺可以最简略的分为化学工艺及物理工艺:

化学方法

通常是液态或者气态的前体材料经过在固体表面的化学反应,沉积一层固体材料层.以下常见的镀膜工艺都是属于化学工艺:

电镀(Electroplating):利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺图片化学溶液沉积 Chemical solution deposition (CSD):是利用一种合适的还原剂使镀液中的金属离子还原并沉积在基体表面上的化学还原过程.与电化学沉积不同,化学沉积不需要整流电源和阳极.Sol-Gel技术就是一种化学溶液沉积方法.

旋转涂覆法 Spin-coating:即在高速旋转的基片上,滴注各类胶液,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关.通常也需要涂胶后的热处理来使胶状涂膜晶体化.对于高分子聚合物Polymer的薄膜涂覆比较有效,广泛应用于半导体的光感掩膜涂覆.

化学气相沉积 Chemical vapor deposition(CVD):把一种或几种含有构成薄膜元素的化合物、单质气体通入放置有基材的反应室,借助空间气相化学反应在基体表面上沉积固态薄膜的工艺技术.

等离子增强化学气相沉积 Plasma enhanced Chemical vapor deposition (PECVD):是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜.因为利用了等离子的活性来促进化学反应,PECVD可以在较低的温度下实现.

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