半导体车间里为什么会有甲烷气体？

甲烷是无色无味的气体，家用天然气（主要成份是甲烷）因混有臭味剂四氢噻吩而有味道。

而半导体车间（特别是新材料）一般是混有氯化氢、氨气等气体，而具有刺激性气味。

半导体是处于导体以及非导体之间的一种物质形态。PHE应该代表这类物质或者说是某种电子元器件上存在三个可以接通弱点产生效果的引脚吧！一般多为惰性气体，不会爆炸，也就是纯氮气，没有水份也没有氧更没有氢。

做Si集成电路的fab里，你列举的这些都用的到。

硅烷和笑气，长氧化硅时候用。

HCL:清洗wafer的时候用。

CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。

SF6:蚀刻Si的时候用。

其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。

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