
光刻的重要部分遮光罩(mask)本身是方形的,它是由很多方格组成,每个方格叫做一个shot,它是曝光的最小单位。Shot包括一个或多个Die,外加一下外围测试电路。因为shot是方形的,所以每个小格也是方形的,整个mask是他们的集合。
火车上,提交的时候断网了,又要输一遍,悲催啊!!!这个shot map不是封装的术语,纯粹是光刻的,而且是只针对投影式步进光刻的。在stepper光刻机中,reticle的图形被缩小投影到wafer表面,曝光wafer上的光刻胶。reticle一般尺寸是5寸或者6寸,而缩小的倍率一般是4倍或者5倍,最后得到的曝光范围是小于50mm的,一般是30mm左右见方。而对于wafer,从2寸到12寸,一次投影是不能完成整个面积的,必须要多次投影曝光才能覆盖整个wafer。shot,指的就是一次投影曝光,很形象的命名,就像照相机在照相的时候闪光灯flash一下。map,半导体领域常用于表示某种分布,也是很形象的命名,用的很广泛。shot map,顾名思义,多次投影曝光在wafer上的分布。不同的产品,分布是不同的,甚至shot也是不同的,所以需要综合考虑。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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