中科院在有机半导体自旋传输研究中取得新进展

中科院在有机半导体自旋传输研究中取得新进展,第1张

近期,中国科学院合肥物质科学研究院强磁场科学中心研究人员在聚合物半导体自旋流探测及其薄膜结构-自旋传输性能关系研究中取得新进展,相关研究成果在美国化学会(ACS)旗下期刊《ACS应用材料和界面》(ACS App lied Materials &Interfaces)上在线发表。

有机半导体材料具有微弱自旋-轨道耦合和超精细相互作用,可作为有前途的自旋极化传输介质,因此寻找新型有机自旋电子材料、 探索 其自旋极化传输过程和机制具有重要意义。此前这方面研究大多通过制备有机自旋阀器件来测量携带着自旋极化的电子传输,但存在铁磁/半导体界面的电导失配等问题,严重制约了对有机半导体自旋传输特性定量深入研究。近年来,自旋泵浦激发和探测纯自旋流(不伴随净电荷电流)由于能克服界面电导失配问题,逐渐成为 探索 半导体材料本征自旋传输性质的有力手段。

强磁场中心张发培课题组与研究员童伟合作,采用铁磁共振(FMR)自旋泵浦技术 结合 逆自旋Hall效应(ISHE)测量,研究了新型聚合物半导体PBDTTT-C-T的自旋极化传输特性。他们通过设计一种适合低噪声电压测量的样品架,在NiFe/聚合物/Pt三明治结构中探测到清晰的ISHE信号,通过测量ISHE电压随PBDTTT层厚度的变化,观察到PBDTTT层中纯自旋流传输和长的自旋驰豫时间。

令人吃惊的是,研究人员首次利用半导体/绝缘体聚合物共混薄膜作为自旋极化传输介质,在低含量PBDTTT与绝缘的聚苯乙烯(PS)形成的共混薄膜中,仍能测量到很强的ISHE电压信号,并发现共混薄膜的自旋扩散长度和载流子迁移率相对于“纯”PBDTTT薄膜有显著的提高。他们通过综合性薄膜微结构测量发现,PBDTTT骨架链bundle在绝缘的PS基体中形成相互连通的纳米细丝网络,构成 贯穿 薄膜的快速电荷传导通路,可以解释共混薄膜更高的电荷和自旋传输能力。此外,还发现PBDTTT的自旋扩散长度具有弱的温度依存性,与基于自旋-轨道耦合的自旋弛豫机制一致。

这些结果清楚地表明,有机半导体的薄膜结构特性,如分子取向和堆积方式以及薄膜形貌等,对其自旋传输性能有关键性的影响。该工作对理解有机半导体自旋极化传输微观过程和机制有重要意义,并为寻找低成本、高性能有机自旋电子材料提供新途径。

该项研究获得国家自然科学基金项目以及国家重点研发项目的支持。

文章链接:https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acsami.9b16602

图(a) Py/PBDTTT-C-T/Pt三明治结构器件上ISHE效应的产生,(b) 该器件所测的总电压谱(随磁场变化)及其退卷积。其中VLorentz对应于ISHE电压,(c) ISHE电压分别随PBDTTT-C-T介质层和PBDTTT/PS共混膜介质层厚度的变化。由此推算出聚合物薄膜不同的自旋扩散长度ls。

半导体产业持续朝先进制程迈进,不断追求精密细小的极限挑战,以延续摩尔定律。为此,台湾地区台湾大学、台积电、美国麻省理工学院(MIT),联合研究发现二维材料结合半金属铋(Bi)能达到极低的电阻,接近量子极限,有助于实现半导体1纳米以下的艰巨挑战;且这项研究已于「自然期刊(Nature)」公开发表。

https://www.nature.com/articles/s41586-021-03472-9

目前硅基半导体主流制程,已进展至5纳米及3纳米节点,芯片单位面积能容纳的晶体管数目,也将逼近半导体主流材料「硅」的物理极限,芯片性能无法再逐年显著提升。

因此,随着硅基半导体已逼近物理极限时,全球科学界都在积极寻找其他的可能材料;而一直以来科学界都对二维材料寄予厚望,却苦于无法解决二维材料高电阻、及低电流等问题,以至于取代硅成为新兴半导体材料一事,始终是「只闻楼梯响」。

为此,台大联手台积电、MIT 共同研究,首先由MIT团队发现在二维材料上搭配半金属铋的电极,能大幅降低电阻并提高传输电流;随后台积电技术研究部门(CorporateResearch)将铋沉积制程进行优化,台大团队并运用氦离子束微影系统(Helium-ion beamlithography)将元件通道成功缩小至纳米尺寸,终于获得这项突破性的研究成果。

这项跨国合作自2019年展开,合作时间长达一年半,包括台大、台积电、麻省理工学院等皆投入研究人力,共同为半导体产业开创新路。

这项研究发现,在使用铋为接触电极的关键结构后,二维材料晶体管的效能不但与硅基半导体相当,又有潜力与目前主流的硅基制程技术相容,实有助于未来突破摩尔定律的极限。虽然目前还处于研究阶段,但该成果能替下世代芯片提供省电、高速等绝佳条件,未来可望投入人工智能、电动车、疾病预测等新兴 科技 的应用中,民众都能受惠。

过去半导体使用三维材料,其物理特性与元件结构发展到了三纳米节点,这次研究改用二维材料,其厚度可小于一纳米(一到三层原子厚),更逼近固态半导体材料厚度的极限。而半金属铋的材料特性,能消除与二维半导体接面的能量障碍,且半金属铋沉积时,也不会破坏二维材料的原子结构。


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