石墨烯的制备方法

目前石墨烯制备方法主要包括化学气相沉积法、溶剂剥离法、氧化还原法、微机械剥离法、外延生长法、电弧法、有机合成法、电化学法等。

以化学气相沉积法(CVD)为例：所谓CVD法，指的是反应物质于气态条件下产生化学反应，进而在加热固态基体表生成固态物质，从而实现固体材料的制成的工艺技术】。

目前，以CVD法进行石墨烯制备时通过将碳氢化合物等含碳气体通入以镍为基片、管状的简易沉积炉中，通过高温将含碳气体分解为碳原子使其沉积于镍的表面，进而形成石墨烯，再通过轻微化学刻蚀来使镍片与石墨烯薄膜分离，从而获得石墨烯薄膜。该薄膜处于透光率为80％的状态下时其导电率便高达1．1×106S／m。通过CVD法可制备出大面积高质量石墨烯，但单晶镍价格则过于昂贵，该方法可满足高质量、规模化石墨烯的制备要求，但工艺复杂，成本高，使得该方法的广泛应用受到限制。

首先咱们要知道的是石墨烯的物理结构，它是世界上目前为止最薄的材料，轻薄的特性使得它可以用在处理器上面并且能制作更精细的芯片。

除了它的物理特性之外，它还有各种价值有待挖掘，可以说是未来的一种非常重要的工业材料之一。当然据好物君的猜测，在现在这么长的时间内，石墨烯没有得到及时的量产估计也是因为制作困难和适配困难的原因，除了很多大厂还没有解决技术难题之外，随之而来的还有原材料的提取问题等。

当然好物君认为现在不论是AMD也好，英特尔也罢，他们的重点还是在于研发新一代的处理器上面，至于材料方面也是在不紧不慢地开发当中，估计咱们短时间是看不到什么新的突破了。

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