60岁创办中微半导体！自研出首台5nm刻蚀机，确立了技术地位领先

近两年，我国半导体行业的发展速度很快，但和美国等 科技 巨头相比较，技术仍是落后别人，但是国内产生所自研的技术、设备都能达到世界领先水平。最成功的案例莫过于蚀刻机设备，国内芯片企业所自研的蚀刻机已打破海外的技术垄断。

很多人都不清楚，蚀刻机的重要性并不低于光刻机，两者皆是生产高端芯片的重点设备。

但是，我国的光刻机设备一直处于十分落后的状态，很难让国内半导体厂商生产出高端芯片工艺。而蚀刻机在我国却是特别先进，用于下一代新高端工艺芯片生产，也是绰绰有余。

据了解，中微半导体的所自研的高精度蚀刻机已达到5nm，是国内半导体高端设备的顶尖存在，更是国际半导体行不可忽视的力量。在全球半导体设备企业满意度调查中，中微半导体公司排进世界第三，这也说明很多客户对于中微半导体产品是非常认可的。

要知道，中微半导体之所可以取得今日的巨大成就，完全离不开中微半导体创始人尹志尧，尹志尧拥有200多项各国专利和86项美国专利，而在美国硅谷也是具有一定影响力的华人之一。60岁时的尹志尧身披荣誉，决定携带团队回国创业。

尹志尧携团队回国，创办了中微半导体公司，并且展开对蚀刻机设备的研发，仅仅几年时间，中微半导体企业便自研出第一代介质刻蚀机，该蚀刻机采用单独 *** 作双反台，该设备相比其它蚀刻机效率提升了30％，中微半导体也在市场上获得了好名声。

随着中微半导体的创新技术不断产出，在一段时间当中，中微半导体毅然遭到了美国技术的封锁，直到2015年期间，美国才放弃对中微半导体公司的技术封锁。

中微半导体成立的第11年，中微半导体再次自研出首台最先进的5nm刻蚀机，自此，中国的5nm蚀刻机在全球确立了5nm刻蚀机技术的地位领先。

现如今的中微半导体5nm蚀刻机设备已和台积电等芯片代工企业采购，目前，对于国内的芯片产业链来看，中微半导体已经可以长久的供应技术维持。

对于中微半导体公司的未来发展你怎么认为？

大家都知道，芯片的制造流程非常繁杂， 首先就是要将一粒粒沙子溶解，提取出硅晶圆，然后再切割成一片片薄薄的硅晶片，随着对其进行光刻、蚀刻、等离子注入、封测等， 经过这些复杂的程序后，方能被应用在各种各样的电子产品上。

我国进入半导体行业的时间较晚，技术积累与西方发达国家存在着一定的差距，这是我们必须正视的一个问题，但由于那些掌握半导体核心技术的西方国家为了限制我国 科技 的发展，早在几十年前就签订了《瓦森堡协定》， 禁止向我国出口一切核心技术，让我国 科技 企业不得不依赖进口芯片。

美国切断华为芯片来源后，任正非在接受媒体采访时表示，中国企业之所以无法独自制造出高端芯片，主要是因为制造高端芯片的设备被卡了脖子。所以， 要想实现高端芯片的国产化，我们就必须研制出光刻机、蚀刻机等设备。

为了促进国内半导体行业的发展，国家出台了大量的半导体行业的优惠政策，并且组建了国内首所“芯片大学”，打造了“东方芯港”，提出了 “向上捅破天，向下扎下根” 的口号。

在国家的号召下，中国企业、科研机构、科学家闻令而动，掀起了“造芯”浪潮，且取得了重大突破，如国内“实干型”企业盛美半导体攻克高端芯片设备。

据媒体报道，国内半导体巨头盛美半导体正式对外宣布， 已成功研制出边缘湿法蚀刻设备，核心技术实现了自主可控，且已通过国内厂商验证，将于今年第三季度交付下游企业。

据了解，盛美研制的这款边缘湿法刻蚀设备，可以去除晶圆边缘的各种电解质、金属以及颗粒污染物， 降低边缘污染对后续工艺的影响，提升良品率， 效果远高于边缘干法刻蚀机。

值得一提的是，边缘湿法刻蚀机设备市场一直被美国和日本的企业垄断，市场份额占比高达95％。如今， 盛美成功研制出边缘湿发刻蚀机设备，填补了我国在该领域的空白，进一步撕破了西方的技术城墙。

对于中国在半导体设备的不断突破，美国学者发出感慨： 美国对华为等中国企业的打压，是一个非常愚蠢的决定， 此举不但不能遏制住中国 科技 的崛起，反而激发了中国人的血性和斗志，让他们变得更加强大！

正如美国学者所言， 中国人是世界上最聪明的一群人，但我们容易满足、懈怠，尤其是有钱之后，很容易分不清东西南北，不然也不会说出“ 科技 无国界”、“造不如买，买不如租”这样的话。

美国经常挑我们的毛病，找我们的麻烦，对我们来说，是一件好事，可以让我们的头脑时刻保持清醒，让我们变得更加强大，让我们引领人类文明的进步！

笔者相信，随着中国科学家不断突破“卡脖子技术”，制造出自主可控的半导体设备，“中国芯”必定能强势崛起，打破美国的芯片封锁，帮助国内企业捡起被他人摁在地上摩擦的尊严！

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