据semiwiki报道，预计 3nm 节点的金属间距约为 22nm。这对 EUV 光刻技术的使用提出了一些新的挑战。这些挑战针对0.33NA 与 0.55NA 系统的一些挑战是不同的。   对于 0.

原作者：Shiyuan Liu 编辑：黄飞

自今年二季度以来，由于消费类电子市场对于半导体需求持续下滑，再加上新增晶圆制造产能的陆续开出，众多晶圆代工厂的产能利用率都出现了下滑。继7月有大陆成熟制程晶圆代工厂率先降价10%之后，近日有消息称，台

【导读】华为研发芯片新技术，在芯片堆叠以及光量子等新型芯片领域进行探索。业内对这些芯片有哪些成果呢？新型芯片能打破摩尔定律吗？【一】光量子，光电芯片的探索半导体发展了半个世纪，从人类发现晶体管，集成电

记者２３日从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。据中科院光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，该所自主研发的新型光刻机，将纳米压印这一新型高分辨力光刻

5万块一瓶的胶水你见过吗？还真有！它的名字叫光刻胶，是造芯片必备的材料，这项核心技术掌握在日本手里，光是日本的化工四巨头，就占了80%的市场份额。 那光刻胶凭啥卖5万一瓶啊？这得从芯片是怎么被“光刻”

不久前，一台价值1.06亿元的设备经空运从荷兰飞抵厦门，由于该设备价值高，而且对保存和运输有着很高的要求——必须保持在23℃恒温状态下。为了避免影响设备的精度，在运输中也对稳定性有极高的要求。因此，机

每每提到半导体行业发展，免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大，国内公司对人才也求贤若渴，不惜高薪挖人，但在关键技术上，我们落后欧美公司还是挺多的，特别是在半导体制造装备上，先进的光

巴隆周刊（Barrons）报导，艾司摩尔（ASML）上周公布上季财报亮眼，并宣布已接到新一代极紫外光（EUV）微影机台六部订单，有分析师推测，台积电可能订走了其中五台，即一口气买下5.5亿美元的设备。

如果历史可以重演的话，日本人Takanashi一定会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜

半导体制造工艺是集成电路产业的核心，未来摩尔定律是否还能主宰产业发展就得看半导体工艺是否能在10nm以下的工艺继续突破了，而在这个问题上，荷兰ASML公司的EUV光刻机何时成熟就是个关键了。上周ASM

什么是光刻机光刻机（MaskAligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、

光刻机介绍光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.光刻机分类：光刻机一般根据 *** 作

什么是光刻机？光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的

荷兰除了NXP、ASML、Philips等知名公司外，大量的中小企业在设计、测试和模拟及MEMS、光电子和特定应用领域也非常活跃，而中国巨大的半导体需求市场也吸引着全球淘金者目光。为此，首届“中荷半导

什么是光刻机光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Pho

【导读】：荷兰ASML光刻机掌握着世界做高端的工艺，半导体行业都离不开他，ASML光刻机的售价也是相当之高的。据传，中芯国际1.2亿美元向ASML预订一套光刻设备，欲开发14纳米工艺，缩小与竞争对手的

5月21日，在上海浦东新区康桥工业园南区，由华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目（以下简称“华虹六厂”）实现首台工艺设备——光刻机搬入， 标志着华虹六厂从基建

近日消息，长江存储从荷兰阿斯麦（ASML）公司订购的一台光刻机（非EUV光刻机）已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元，约合人民币4.6亿元。此外，中芯国际中芯国际也向阿斯麦下单了一台价值高达1