IGBT长文 功率半导体行业情况预测2025年国内功率半导体500亿市场，目前国产化渗透率很低。预测未来整个功率三大块：汽车 、光伏、工控 。还有一些白电、高压电网、轨交。（1）工控市场：

两题都是围绕 爱因斯坦方程 Du = KTq展开的D 载流子（电子或空穴）扩散系数，u 载流子迁移率KTq除T温度外其他为常数。常温下（20摄氏度293k） KTq=0.026ev 这个要记住，常用第一题 0.026*150

银被氧化后会不会影响导电一般的铜在空气中表面会缓慢氧化为氧化铜，氧化铜的导电性很差，附着在铜的表面会阻碍导电，造成铜的电阻值偏大。进行酸洗，主要是为了除去表面的氧化铜，使铜体裸露，减小氧化铜的电阻。在酸洗后，氧化铜被除去，铜的导电性能会变得

PCC是氯铬酸吡啶鎓盐化学试剂，是吡啶和CrO3在盐酸溶液中的络合盐，为橙红色的晶体。氯铬酸吡啶鎓盐常在有机合成中用做醇氧化成醛或酮的氧化剂，反应一般在二氯甲烷中进行，条件温和，产物比较单一，不容易发生过氧化。化学性质PCC与其它常用的

环氧树脂板又叫绝缘板、环氧板、3240环氧板环氧树脂是泛指分子中含有两个或两个以上 环氧基团的有机高分子化合物，除个别外，它们的相对分子质量都不高。环氧树脂的分子结构是以分子链中含有活泼的环氧基团为其特征，环氧基团可以位于分子链的末端、中间

清洗方法（一）RCA清洗：RCA 由Werner Kern 于1965年在N.J.Princeton 的RCA 实验室首创, 并由此得名。RCA 清洗是一种典型的湿式化学清洗。RCA 清洗主要用于清除有机表面膜、粒子和金属沾污。1、颗粒的清

做Si集成电路的fab里，你列举的这些都用的到。硅烷和笑气，长氧化硅时候用。HCL:清洗wafer的时候用。CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。SF6:蚀刻Si的时候用。其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。氮气是保护气体，

电催化是使电极、电解质界面上的电荷转移加速反应的一种催化作用。电极催化剂的范围仅限于金属和半导体等的电性材料。电催化研究较多的有骨架镍、硼化镍、碳化钨、钠钨青铜、尖晶石型与钨态矿型的半导体氧化物，以及各种金属化物及酞菁一类的催化剂。主要套

东吴证券发布投资研究报告，评级: 增持。至纯 科技 (603690) 国内高纯工艺系统龙头，后发进军半导体清洗设备业务 至纯 科技 主要从事高纯工艺系统和半导体湿法清洗设备业务，2019年收入分别为6.37亿元和0.82亿元，占比总

水分解不是自发过程，需要加入能量，如水的电解。氧气和氢气能变成水可以是自发过程，氢气燃烧产物就是水。水在直流电的作用下，能分解成氢气和氧气。当电火花通过氢、氧混和气体时，他们即化合成水。这两个实验都说明水是由氢、氧两种元素组成的，从实验结

1.硫化亚铁是黑色的不溶于水的硬而脆的固体，可以和强酸反应制取硫化氢，FeS + 2H+ = Fe2+ + H2S↑。氯化铁可以通过铁丝在氯气中燃烧来制取，也可以向FeCl2溶液中通入氯气来制取。氯化铁为棕黄色粉末，浓溶液为红棕色，与浓

扩散炉是集成电路生产线前工序的重要工艺设备之一，它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺可以使用离子注入的方法进行掺杂，但是热

常温下导电性能介于导体(conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料，叫做半导体（semiconductor）．什么是光催化？光触媒[PHOTOCATALYSIS]是光 [Photo=Light] + 触媒(催化剂)[cat

硅烷气是太阳能电池生产过程中不可或缺的材料，因为它是将硅分子附着于电池表面的最有效方式。在高于400℃的环境下，硅烷气分解成气态硅和氢气。氢气燃烧后，剩下的就是纯硅了。 此外，硅烷气可以说是无处不在。除了光伏产业外，还有很多制造工厂需要

在新能源的上市公司中是央企的一览表：中国国电集团公司（国电）：国电电力（600795）、长源电力（000966）、英力特（000635）、平庄能源（000780）、龙源技术（300105）中国建筑材料集团有限公司（中国建材）：南方建材（00

铁氧体是一种非金属磁性材料，又叫铁淦氧。它是由三氧化二铁和一种或几种其他金属氧化物（例如：氧化镍、氧化锌、氧化锰、氧化镁、氧化钡、氧化锶等）配制烧结而成。它的相对磁导率可高达几千，电阻率是金属的1011倍，涡流损耗小，适合于制作高频电磁器件

BiOxCly型。硝酸铋是一种无机化合物，是属于BiOxCly型半导体催化剂，因此是BiOxCly型。无机化合物硝酸铋是一种无机化合物，为无色或白色有硝酸气味的固体，易潮解，易溶于硝酸、甘油、乙二醇、丙酮、稀酸，不溶于乙醇、四氯化碳。有，硝

清洗方法 （一）RCA清洗： RCA 由Werner Kern 于1965年在N.J.Princeton 的RCA 实验室首创, 并由此得名。RCA 清洗是一种典型的湿式化学清洗。RCA 清洗主要用于清除有机表面膜、粒子和金属沾污。1、

随着科技不断的创新，我国的电子设备需求也在不断的增加，因此电子半导体行业的污水排放量也在不断的增加，在水资源紧缺的情况下LED半导体行业的污水应该怎么处理呢?半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。为了除去污水中COD、氨