
测试类电子电路主要有射频针,BGA,ATE,FCT以及MDA/ICT等等,主要是应用在MDA/ICT/Function等相关主板检测治具,可在生产过程中将不良主板检测出来。
射频就是射频电流,是一种高频交流变化电磁波的简称,对于GSM、WCDMA、CDMA2000及蓝牙(bluetooth)、wifi、wimax等的测试统属于RF测试,多为无线通讯。
BGA是在封装体基板的底部制作阵列焊球作为电路的I/O端与印刷线路板(PCB)互接。用LH(台湾錂鋐)半导体探针或模组来检测读写程式设计。
ATE通常为流线测试设备,测试于半导体产业意指积体电路(IC)自动测试机,用于检测积体电路功能之完整性,为积体电路生产制造之最后流程,以确保积体电路生产制造之品质。
FCT就是功能测试,在ICT测试OK后,就可以进行功能测试,看PCBA是否工作正常,达到设计的功能。主要用于被测物的转接后测试,简化人工插拔的动作,提升生产效率。
ICT/MDA主要用于被测物的测贴透过探针转接后测试,可体测项目如:检测Open.short,电阻阻值量测,电容容值量测,电感感量量测,二极体量测,电晶体量测,电压量测,IC量测,路线量测等检测。
Chapter 2IC 生产流程与测试系统
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2 IC 生产流程与测试系统
2.1 IC 生产流程简介
你想知道精密的IC 芯片是如何从粗糙的硅矿石中诞生的吗?本节将为您揭开IC 制造的神秘面纱。
你知道吗?制造一块IC 芯片通常需要400 到500 道工序。但是概括起来说,它一般分为两大部分:前道
工序(front-end production)和后道工序(back-end production)。
[1] 前道工序
该过程包括:
(1) 将粗糙的硅矿石转变成高纯度的单晶硅。
(2) 在wafer 上制造各种IC 元件。
(3) 测试wafer 上的IC 芯片
[2] 后道工序
该过程包括:
(1) 对wafer 划片(进行切割)
(2) 对IC 芯片进行封装和测试
在制造过程中有数道测试步骤。其中,在前道工序中对IC 进行的测试,我们把它叫做wafer 测试。在后
道工序过程中对封装后的IC 芯片进行的测试,我们称之为封装测试。在有些情况下,wafer 测试也被放
在后道工序中,但在本文里,我们把wafer 测试归为前道测试。
半导体基础知识
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♦ADVANTEST
前道生产流程:
<1>硅棒的拉伸
将多晶硅熔解在石英炉中,然后依靠
一根石英棒慢慢的拉出纯净的单晶硅棒。
晶种
单晶硅
加热器
石英炉
熔融的硅
金刚石刀
单晶硅
抛光剂
Wafer
气体
加热器
Wafer
石英炉
<2>切割单晶硅棒
用金刚石刀把单晶硅棒切成一定的厚度
形成WAFER。
<3>抛光WAFER
WAFER 的表面被抛光成镜面。
<4>氧化WAFER 表面
WAFER 放在900 度——1100 度的氧化
炉中,并通入纯净的氧气,在WAFER 表面
形成氧化硅。
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滴上光刻胶
电极
电极
真空泵
反应气体
Wafer
Wafer
抛光板
研磨剂
光学掩模板
镜片
Wafer
移位
重复<5>到<9>,在
WAFER 上形成所需的
各类器件
<5>覆上光刻胶
通过旋转离心力,均匀地在WAFER
表面覆上一层光刻胶。
<6>在WAFER 表面形成图案
通过光学掩模板和曝光技术在
WAFER 表面形成图案。
<7>蚀刻
使用蚀刻来移除相应的氧化层。
<8>氧化、扩散、CVD 和注入离子
对WAFER 注入离子(磷、硼),然
后进行高温扩散,形成各种集成器件。
<9>磨平(CMP)
将WAFER 表面磨平。
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♦ADVANTEST
正极
负极
Wafer
进气
出气
芯片
Wafer
探针卡
信号
使用ADVANTEST 的
T6573 测试系统
<10>形成电极
把铝注入WAFER 表面的相应位置,
形成电极。
<11>WAFER 测试
对WAFER 进行测
试,把不合格的芯片
标记出来。
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IC 生产流程与测试系统
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后道生产流程:(对WAFER 测试合格的芯片进行下面的处理)
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