洁净室污染源如何控制

洁净室不像我们日常生活中的房间，它不允许你随便进出，它是将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计的房间。 对于洁净室的洁净室洁净程度的维持和控制，除了硬件设备配合投资外，也需要良好的软件--管理制度来配合，方能维持良好的洁净度。半导体洁净室内的微污染来源，经测试分析结果，作业人员占约80％。实验数据显示，作业人员进出洁净室时尘埃有显著的增加，有人动作时，洁净度马上劣化，可见洁净度劣化之原因，人是主要因素。 即使人是最大的污染源，但洁净室总是需要有人 *** 作的，那么该怎么办呢？ 1.作业人员之管理，在洁净室内污染来源80％来自作业人员，因此若能使作业人员依洁净室管理办法确实执行管理，而所有人员也均能配合实施，则污染源的产生可说已减少大半。 2.进入洁净室之人员，必须要具备有达成高洁净度标准，并要维持最好状态的观念。 3.作业人员进入洁净室数目以维持最小限度为原则（愈小愈好），并须依洁净室进出标准流程进出洁净室。出则相反方向进行，唯不须经空气洗尘室脱尘处理。

√ 楼主您好，根据您提出的问题，下面为您做详细解答：

半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水，净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉（TO）→烟囱排气达标排放。

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