
做半导体设备工程师,至少要做过一下设备其中的一种
1. AMAT applied material 美国应用材料的设备,DPS, DPS+, E-MAX, E-MAX+, supper E,等等
2. TEL TOKYO ELECTRON LTD,东京电子有限公司,UNITY,TEL8500等等
3. LAM ,rainbow,DFM等等
4. 尼康,佳能曝光机,显影机,阿斯麦尔曝光显影一体机,等等
以上是关于光刻刻蚀的,thick film主要用的也是AMAT的设备,diffusion不太懂。
以上数据供你参考
至于能不能做谁说了都不算,要亲自去尝试一下,投投简历,面面试
主要是对硅晶片(Siwafer)的一系列处理
1、清洗
->
2、在晶片上铺一层所需要的半导体
->
3、加上掩膜
->
4、把不要的部分腐蚀掉
->
5、清洗
重复2到5就可以得到所需要的芯片了
Cleaning
->
Deposition
->
Mask
Deposition
->
Etching
->
Cleaning
1、中的清洗过程中会用到硝酸,氢氟酸等酸,用于清洗有机物和无机物的污染
其中Deposition过程可能会用到多种器材,比如HELIOS等~
Mask
Deposition过程中需要很多器材,包括Spinner,Hot
plate,EVG等等~
根据材料不同或者需要的工艺精度不同,Etching也分很多器材,可以使用专门的液体做Wet
etch,或者用离子做Plasma
Etching等
最后一部的Cleaning一般是用Develpoer洗掉之前覆盖的掩模~
多数器材都是Oxford
Instruments出的
具体建议你去多看看相关的英文书,这里说不清楚。。
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