
2、优异的导通性。铝丝的良好的电阻性能可以使半导体元件的排料工作保持较高的效能,使半导体元件能够在高位置、低位置和大型元件工作下,都能有效保证排料和接点之间的最佳导通性能。
3、高精度控制。在半导体铝线键合的过程中,具有高精度控制能力,可以有效控制排料工作的准确度,并具有良好的排料定位能力,能够准确控制和平衡排料工艺中接触面积、接触压力等参数。
4、抗湿潮性能优越。铝丝具有良好的湿潮抗性,在半导体材料的排料过程中,可以有效防止湿潮影响排料质量,有效控制有害气体的释放和渗出,使排料结构得到高效保护,并最大限度地提高元件的可靠性和寿命。
IC的制备工艺相对复杂一点,但跟基本的晶体管、MOS工艺等差不多的。NPN管为例硅外延平面管的结构主要工艺流程:(1) 切,磨,抛衬底(2)外延(3)一次氧化(4)基区光刻(5)硼扩散/硼注入,退火(6)发射区光刻(7)磷扩散(磷再扩)(8)低氧(9)刻引线孔 (10)蒸铝(11)铝反刻(12)合金化 (13)CVD(14)压点光刻(15)烘焙(16)机减(17)抛光(18)蒸金(19)金合金(20)中测.欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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