
wet的基本意思是“湿的,潮的”,指某物体表面有液体或处于液体状态。
wet也可作“下雨的,多雨的”解。在口语中,wet还可作“没有干劲的,怯懦的”解,多用于英式英语中。
wet的比较级是wetter,最高级是wettest。wet在句中可用作定语或表语。damp的基本意思是“潮湿的”,主要用于修饰有形物,含有不像应该的那么干燥或比人们所喜欢的更湿的意味。不指科技术语中的绝对意义的“湿度大”。一站式出国留学攻略 http://www.offercoming.com
硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备。半导体是指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料,半导体wet设备有硅片晶圆清洗机、蚀刻机、单片清洗机、电镀设备。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。Anisotropic Etch 主要是在etch的时候对材料的各个方向的腐蚀速度不一样~比如说硅,用KOH对100向和110向的硅蚀刻的时候,速度就完全不一样~100会快很多~Dry etch的话,主要是将一些气体电离成离子态,然后用电磁加速打向目标,与目标材料反应~
其实我觉得你说的这两个东西其实不是一个横向可比的东西。。
etch可以根据腐蚀是否有方向性分为 Anisotropic 和 Isotropic两种。
如果以用作蚀刻的材料来分,可以分为wet(比如上面说的KOH)和dry(典型是RIE,Reactive Ion Etch)两种。
如果硬要比的话,dry etch要比anisotropic etch好,因为dry etch可以提供一个非常好的side wall~就是说蚀刻后的那个洞的内壁和底部可以做到几乎垂直~不过具体效果要看dry etch的方法和材料以及目标材料~
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