SK海力士仅能坚持4个月?传日本后面还有大招

SK海力士仅能坚持4个月?传日本后面还有大招,第1张

被经产省列为出口管制的对象为使用于OLED面板制造的氟化聚醯亚胺 ( PI、Polyimide)以及半导体制造过程所不可或缺的光阻剂 (resist)和蚀刻气体(氟化氢)等3项半导体关键材料。目前上述3项产品要出口至南韩时,企业可以一次性向日本 政府 申请多项产品的出口许可,不过自7月4日起上述3项产品输韩时、将不再适用该优惠制度,将改成每件契约(每项产品)皆须进行审查/许可,如此一来,出口许可的申请、审查时间恐费时约90天。

共同通信2日报导,日本 政府 正进行评估、有意扩大对南韩的出口管制措施,计划将列为管制的品项数量自现行的3项进行扩大,而可转用于军事用途的电子零件、相关材料可能将成为追加的对象。

报导指出,因关于二战强制征工问题、南韩端迟迟未针对日本 政府 的要求做出具体回应,因此日本 政府 计划藉由采取更为强硬的措施、迫使南韩当局有所表示。只不过若真扩大出口管制的话、势将引起南韩端的强大反d,恐让双方关系进一步恶化,因此日本 政府 内部也有应「谨慎应对」的声音。

关于二战时的强制征工问题,日本 政府 要求南韩 政府 应基于1965年日韩建交时签订的「日韩请求权协定」设置仲裁委员会,只不过南韩 政府 迄今仍未就解决上述问题一事做出任何具体回应。

韩媒朝鲜日报日文版2日报导,在材料产业上、日本是全球最强国,日本于上述3项半导体关键材料的全球市占率达70-90%,而管制出口,势将冲击南韩的半导体、面板产业。2019年1-5月期间,三星电子、SK 海力士 (SK Hynix )等韩企从海外进口的半导体材料中、日本制材料比重达43.9%(蚀刻气体)~93.7%(氟化聚醯亚胺),其中日本制氟化聚醯亚胺品质超优,是生产三星新机种「Galaxy Fold」搭载的可折叠式OLED面板所不可或缺的材料。

报导指出,若因日本祭出的出口管制、导致韩企无法取得上述3项半导体关键材料的话,三星等南韩半导体大厂能够坚持的时间仅有3-4个月。据报导,三星、SK Hynix等半导体厂目前已确保的3项材料库存量仅约1个月左右,若包含3个月份的DRAM等完成品库存,韩半导体厂能坚持的时间为3-4个月。

全球DRAM、NAND芯片又会加价了吗?!

在日韩的这种纠纷下,影响最大的应该就是存储芯片了。NAND Flash 及DRAM 市场真系「一波未平一波又起」,在上月15 日全球第二大储存记忆体制造商Toshiba 发生的停电事故仍未解决,在7 月1 日日本 政府 突然宣布将对韩国执行经济制裁,限制日本半导体材料、OLED 显示面板材料出口韩国,并于7 月4 日起正式施行,是次日本执行的经济制裁对于Samsung、SK-Hynix 两大韩国半导体厂商在NAND Flash 及DRAM 生产不免会受到影响。

日本限制出口韩国的材料主要有三大品类,分别是电视和手机OLED 面板上使用的Fluorine Polyimide 氟聚酰亚胺、半导体制造中使用的Resist 光刻胶及Eatching Gas 高纯度氟化氢。据了解,日本当前基本上已垄断全球的氟聚酰亚胺、氟化氢材料市场,分别占全球份额的90%、70% 之多。

除了Samsung 及LG 制作电视、智能手机的材料会受影响之外,Resist 光刻胶及Eatching Gas 高纯度氟化氢更会在半导体制造中大量使用,光阻层材料基本上是用于集成电路和芯片制造,这种材料是用来将电路的构造转移到半导体基底。

半导体和显示面板正正是韩国的两大高 科技 支柱产业,日本对韩国执行经济制裁无疑对韩国的经济造成重创,首当其冲的将会是Samsung、LG、 SK-Hynix 等巨头,至于Apple、Google、 SONY、华为、OPPO、vivo 等等相关客户亦将会遭受影响。

据《日本经济新闻》介绍,韩国企业在储存半导体方面具备很强的优势,在DRAM 领域拥有全球7 成的市场份额,NAND Flash 则拥有5 成的份额,DRAM 及NAND Flash 产品都会搭载到智能手机、电视、个人电脑等电子设备上。

不过在双方解决问题之前,韩国公司面临的问题就是如果没有日本厂商的半导体材料,生产可能就会受到影响,目前消息称SK-Hynix 表态其库存不足三个月,未来如果无法获得充足的材料供应将会停产,Samsung 则表示目前尚未发表报告,正在评估影响。

若果韩国半导体出货延迟的话,预期全球的DRAM 及NAND Flash 市场又会受到冲击了。

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今天,媒体全球半导体观察发文称,因为智能手机和固态硬盘的强劲需求,第四季度的NAND Flash闪存将比之以前处于更加严重的缺货状态,言外之意,闪存可能要涨价了!说到闪存,很多人都会想到运行内存和储存内存,关心手机硬件的朋友应该都对CPU、GPU、屏幕和电池等部件非常熟悉,但是对于产品性能同样非常重要的RAM(运行内存)和ROM(储存内存)相信就没有那么多人有很多了解了,今天的这篇文章,就先来说说储存内存的那些事。首先,和CPU等不一样,ROM的性能好坏的评价并不和计算能力相关,衡量一块闪存和运存性能好坏的,只有两个指标:数据读写速度和容量。 3D NAND为闪存容量打了兴奋剂 关于容量,首先需要强调,手机储存容量、固态硬盘(SSD)、U盘和SD卡等使用的都是一种叫做NAND的储存介质,传统的储存介质还有机械硬盘(HHD),也就是传统的光盘储存。特点是断电之后也能保持储存的数据不丢失,可以作存储数据用。而所谓的RAM(运行内存)则是通过某种电容(DRAM、SRAM或RRAM)储存数据的,断电之后数据马上消失,但是数据吞吐速度及其迅速,这里不做深究。我们都知道现在苹果已经将自家的iPhone容量整体翻了一倍,从以前的16GB/64GB/128GB改为了32GB/128GB/256GB,所以即使今年的iPhone7销售情况并不能比上去年的iPhone6s,但是对NAND闪存的需求量仍然上涨了接近一倍,再加上固态硬盘的价格持续走低,这种几年前还是奢侈品的硬盘现在已经走进寻常百姓家,需求量也大大增长,这一切都促使着NAND闪存产量需要大幅增加。再加上2D NAND的生产线很多都为最新的3D NAND闪存腾了出来,而3D NAND技术,就是最近几年闪存容量飞速增长的最大助力。传统的2D-NAND如果想要在同样的芯片体积上增加储存容量,需要NAND cell单元制程越做越小,这样才能在单位面积中塞入更多的存储单元,可是物理这个东西总是有极限的,在20nm工艺之后,随着单元体积的进一步缩小,会带来越来越严重的电子干扰现象,这就使得储存芯片的可靠性与读写性能反而会降低。在这种窘境下,3D NAND技术被提了出来,简单来说就是将原来平面排列的NAND cell再加一个垂直方向上的堆叠,这种垂直方向的排列可以在微观下数倍的增加可用体积,可是因为单个cell单元的体积极小,所以并不会在宏观层面带来体积增加。并且因为可用体积成倍增长,使用3D NAND堆叠的闪存可以用更加成熟的制程,所以三星、Intel等厂商生产的3D NAND闪存都是使用的30nm左右的制程,而不是20nm以下的制程,这也为3D NAND带来了更加优秀的可靠性。例如目前20nm工艺下的MLC闪存的擦写次数普遍是3000次,而使用了3D NAND技术的三星的V-NAND闪存可达35000次。 正是因为3D NAND技术的提出和普及,现在我们越来越多地看见在以前难以想象的1TB SD卡这样的怪兽级储存设备,而在相同的芯片体积下,手机的ROM和电脑的SSD等也有着越来越大的储存容量。可惜的是这项拥有光明前景的技术在国内无人能够掌握,三星和Intel等厂商已经能够制造36、48层甚至是64层的3D NAND堆叠,国内前段时间也传出中芯将在武汉花费160亿美元建立DRAM和NAND工厂,可是就现在的情况来看,国内厂商仅仅能够生产出4层堆叠的3D NAND,和业界巨头来比还相去甚远。eMMC传输协议已近黄昏,三星、苹果为了新标准互不相让 除了容量,读写速度也是制约使用体验的因素之一,想必所有人都尝到过游戏、应用加载过慢的痛苦,但是随着各家厂商提出新的标准规格,近年来小到不起眼的手机内存也迎来了突飞猛进的发展。现在的内存标准规格可以分为3类,一是传统的eMMC,再就是分别由三星和苹果提出的UFC标准和NVMe标准。 其实这些标准就是在NAND存储芯片的基础上,再加上了控制芯片,接入标准接口,进行标准封装,形成一个高度集成的储存模块。有点像手机中的SoC,将所有需要的东西都塞到一个模块中,方便手机制造商直接拿来装在主板上,简化了产品研发的流程。不过这三种标准更多的只是在接口和数据传输协议上的标准,在存储介质上,都是使用的NAND闪存。eMMC在之前一直都是业内主流的内存标准,通俗的来说,eMMC=NAND闪存 闪存控制芯片 标准接口封装,UFS和NVMe也都是如此,不同之处在于闪存控制芯片和接口协议不一样。eMMC从eMMC4.3一路发展到4.4、4.5直到现在的5.0,传输速度也从50MB/S一路狂飙到200MB/S直到现在eMMC5.0的400MB/S,再往后还有eMMC5.1高达600MB/S的传输速度。不过用三星的话来说,eMMC标准的潜力已经被榨干了,UFS标准才是未来。eMMC在一段时间里只能够读取或者写入一种状态,而UFS2.0支持同时读写数据,并且在传输速度上可以达到780MB/S。在功耗方面,虽然在满载工作时功耗比eMMC高,但是待机状态下却低得多。现在使用了UFS2.0的手机已经很多了,使用了高通骁龙821、820和三星Exynos 8890等处理器的手机都已经支持UFS 2.0。不过苹果一向在硬件上爱默默地堆料,使用了NVMe协议的iPhone6s和iPhone7读写速度都达到了三星S7的2倍以上,所以说iPhone的流畅不仅仅是系统的问题,在硬件上,苹果可一直都是领先安卓阵营的。不过据说在随机读写速度这一项上,UFS2.0的表现要优于NVMe,这代表着在日常复杂的使用环境中,UFS是有优势的。并且据说三星即将推出UFS2.1标准,读写速度可以达到让人咋舌的1.5GB/S。 近期就有传言称华为将要发布的麒麟960处理器就将支持UFS2.1,而作为三星自家的标准,也有很有可能出现在三星的手机中,不知道最后谁能够成为第一个在存储速度上打败iPhone的手机厂家。

半导体行业主要公司:华润微(688396)、三安光电(600703)、士兰微(600460)、闻泰科技(600745)、新洁能(605111)、露笑科技(002617)、斯达半导(603290)等等。

本文核心观点:全球半导体产业迁移分析、全球半导体行业整体市场规模、全球半导体行业细分市场规模

全球半导体行业经历了三次迁移

自发展以来,全球半导体产业格局在不断发生变化。当前,全球半导体产业正在经历第三次产能转移,行业需求中心和产能中心逐步向中国大陆转移。

全球半导体行业正在快速增长

2021年,全球半导体市场快速增长,共销售了1.15万亿片芯片,市场规模达到5560亿美元,创历史新高,同比大幅增长26.2%。整个半导体市场并未受到2021年新冠疫情大流行的负面影响。强劲的消费需求推动所有主要产品类别实现两位数的增长率(光电除外)。

从半导体细分领域来看,集成电路一直是半导体行业的主要细分领域。2021年,集成电路市场规模达到4630.02亿美元,同比增长28.2%,占全球半导体市场规模的83.29%。其中,集成电路又可细分为逻辑电路、存储器、处理器和模拟电路,2021年这四个产品占比分别为27.85%、27.67%、14.43%、13.33%。2021年存储器、模拟电路和逻辑电路都实现较大的增长。

此外,2021年全球光电子器件、分立器件、传感器市场规模分别为434.04、303.37、191.49亿美元,占比分别为7.81%、5.46%、3.44%。

美国是最重要的半导体出口国

凭借出色的技术实力,美国半导体产业在全球保持着较强的竞争优势,2021年美国半导体公司在全球各个主要市场的份额均超过35%,其中在中国和欧洲市场达到了50%,在最低的美洲市场也有38.7%的市场份额。

值得一提的是,随着全球其他国家半导体产业的不断升级,目前美国半导体产业的竞争力有减弱趋势,拿美国本土市场来说,2013-2021年,美国半导体市场中本土公司的市场占有率从56.7%下降至43.2%,降幅超过10个百分点。

2021年,美国半导体产品出口额达到了620亿美元,是美国第五大类出口商品,仅次于精炼油、航空产品、原油和天然气而在电子产品领域,半导体则是出口金额最大的商品种类,远高于无线通讯、电脑等设备。

高研发投入助力产业腾飞

美国在半导体行业出色的竞争力,很大程度上得益于美国企业大规模的研发投入。2021年美国半导体行业研发经费占销售收入的比重为18%,在美国的主要行业中仅次于药物和生物科技行业在世界范围内则排在第一位,高于排在第二的欧洲地区约3个百分点,而中国半导体行业这一比重仅为7.6%。

以上数据参考前瞻产业研究院《中国半导体行业市场前瞻与投资战略规划分析报告》。


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