边缘湿法蚀刻技术突破！点赞中企，高端芯片又近了一步

芯片是一个庞大的产业。一个芯片的制造过程是复杂和冗长的。要想实现芯片自主化，所面临的困难不是一点两点，而是要面对芯片产业上下游众多的挑战。现在我国芯片被卡脖子，从材料到设计和制造都面对着很多的技术壁垒。不过现在我国正在慢慢突破技术，实现芯片产业基本自主。

最近，我国的一个半导体企业就实现了一项新的技术突破。这项技术的重要程度极高，是芯片制造过程中不可缺少的一环，没有这项技术，芯片的制造就不可能完成。从重要性程度来说，这项技术不亚于光刻机。 这家企业就是盛美半导体，其最近再次攻克了边缘湿法蚀刻技术，生产出相应的设备。 更重要的是，该项突破依赖的是国产技术，这意味着这项技术实现了这项技术的自主化。我国之后不必再担心老美对我们进行卡脖子了。

我国为什么制造不出芯片，主要的原因是很多关键的技术被封锁了，一些成品的设备也被老美所封住了渠道，买也买不到。其中公认的最关键的技术和设备就是EUV光刻机了。前一段，上海微电子落地了最新的中低端国产光刻机。此消息一出，可谓振奋人心，给我国芯片产业打了一针强心剂，也让我国芯片自主进程又向前迈进了一大步。

但是我们说，上海微电子这一次研发的光刻机设备再好，也不是EUV光刻机，对于高端芯片还是没有什么办法。这几乎就是一种局限，没有EUV光刻机，就限制了我国通往高端芯片的道路。而我们现在要说的就是EUV光刻机平起平坐，同样重要的蚀刻机 。缺少这玩意，就跟缺少EUV光刻机一样，我们还是搞不出来顶尖那一小撮。

光刻机在芯片制造过程中的承担的功能部分非同一般。 通过光刻机的“雕刻加工”，可以在晶圆上刻画出各种精细的图形，形成集成电路。 这个过程中，光刻机设备的水平直接决定了芯片的制程，可以说是决定芯片“命运”的一步。越是精密的芯片制造，对光刻机的要求越高。

现在顶尖的高端手机几乎都有一个门槛，那就是其芯片需采用的是5nm工艺制程。这种高端芯片只有EUV光刻机能够满足其制造。这也就意味着我国现在没有EUV光刻机，就没办法自主生产出高端手机的关键芯片。

但是芯片制造不止光刻机。在将芯片雕刻之后，还需要后续一系列的处理，芯片才能真正完成。这其中最重要的就算是蚀刻。 光刻机是在晶圆上“作画”，而蚀刻机就是按照“画”来腐蚀掉那些多余的地方和杂质，使集成电路形成。 对于芯片制造来说，光刻机和蚀刻机就像一对兄弟一样，一个处理前置，一个处理后置。

蚀刻机除了影响到芯片的制造成功之外，还影响到芯片的性能和良品率。水平不够的蚀刻技术可能会去除掉不应该去除的部分，或者没有清理干净应该去除的薄膜和杂质，这些都会影响到芯片的性能。如果蚀刻技术再差一点，就会使得芯片报废，达不到合格使用的水准。

现在市场上的蚀刻方法主要有干法和湿法两种，其中湿法蚀刻更加流行。现在市场上主要的芯片蚀刻使用的都是后者的技术。 盛美半导体所研发的边缘湿法蚀刻设备，不仅能够完美完成光刻之后的蚀刻任务，还能够提高芯片的性能和良品率。

不得不说，这一次，又是我国赢了。除了EUV光刻机，老美动用资源封锁的技术和设备正在一个个被我国解锁。加上我国产品的强大的竞争力，老美不得不要考虑一下之后接下来该怎么办了。而那些助纣为虐的企业也应该要好好想一想一下接下来该如何寻求后路了。

还记得华为被制裁的时候，不少人误以为是因为华为才让老美将目光转向我国的芯片产业，但是现在种种事迹表明，老美醉翁之意不在酒，而是在我国的更多的高 科技 产业。在不久的将来，将会开启一场前所未有的 科技 之争，主角当然是以老美为首的老牌强国和以我国为首的后起之秀。为了能够在这场竞争中获得主动权和更多的筹码，我国现在必须将一些被封锁的技术攻克，不被对手卡脖子。 实现芯片自主化，是其中一个极其重要的部分， 目前我国虽然已经取得很多进展，但是任重道远，我们还需要继续努力。

大家都知道，芯片的制造流程非常繁杂， 首先就是要将一粒粒沙子溶解，提取出硅晶圆，然后再切割成一片片薄薄的硅晶片，随着对其进行光刻、蚀刻、等离子注入、封测等， 经过这些复杂的程序后，方能被应用在各种各样的电子产品上。

我国进入半导体行业的时间较晚，技术积累与西方发达国家存在着一定的差距，这是我们必须正视的一个问题，但由于那些掌握半导体核心技术的西方国家为了限制我国 科技 的发展，早在几十年前就签订了《瓦森堡协定》， 禁止向我国出口一切核心技术，让我国 科技 企业不得不依赖进口芯片。

美国切断华为芯片来源后，任正非在接受媒体采访时表示，中国企业之所以无法独自制造出高端芯片，主要是因为制造高端芯片的设备被卡了脖子。所以， 要想实现高端芯片的国产化，我们就必须研制出光刻机、蚀刻机等设备。

为了促进国内半导体行业的发展，国家出台了大量的半导体行业的优惠政策，并且组建了国内首所“芯片大学”，打造了“东方芯港”，提出了 “向上捅破天，向下扎下根” 的口号。

在国家的号召下，中国企业、科研机构、科学家闻令而动，掀起了“造芯”浪潮，且取得了重大突破，如国内“实干型”企业盛美半导体攻克高端芯片设备。

据媒体报道，国内半导体巨头盛美半导体正式对外宣布， 已成功研制出边缘湿法蚀刻设备，核心技术实现了自主可控，且已通过国内厂商验证，将于今年第三季度交付下游企业。

据了解，盛美研制的这款边缘湿法刻蚀设备，可以去除晶圆边缘的各种电解质、金属以及颗粒污染物， 降低边缘污染对后续工艺的影响，提升良品率， 效果远高于边缘干法刻蚀机。

值得一提的是，边缘湿法刻蚀机设备市场一直被美国和日本的企业垄断，市场份额占比高达95％。如今， 盛美成功研制出边缘湿发刻蚀机设备，填补了我国在该领域的空白，进一步撕破了西方的技术城墙。

对于中国在半导体设备的不断突破，美国学者发出感慨： 美国对华为等中国企业的打压，是一个非常愚蠢的决定， 此举不但不能遏制住中国 科技 的崛起，反而激发了中国人的血性和斗志，让他们变得更加强大！

正如美国学者所言， 中国人是世界上最聪明的一群人，但我们容易满足、懈怠，尤其是有钱之后，很容易分不清东西南北，不然也不会说出“ 科技 无国界”、“造不如买，买不如租”这样的话。

美国经常挑我们的毛病，找我们的麻烦，对我们来说，是一件好事，可以让我们的头脑时刻保持清醒，让我们变得更加强大，让我们引领人类文明的进步！

笔者相信，随着中国科学家不断突破“卡脖子技术”，制造出自主可控的半导体设备，“中国芯”必定能强势崛起，打破美国的芯片封锁，帮助国内企业捡起被他人摁在地上摩擦的尊严！

靠谱。根据查询上海盛美相关资料得，上海盛美半导体靠谱。上海盛美半导体成立于1998年，是国内少有的具有世界影响力的半导体企业，主要产品包括半导体清洗设备，半导体电镀设备和先进封装湿法设备等。

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