
作为香料,调制朗姆酒、牛奶、奶油、葡萄酒、果酒、椰子香型香精,用于食品;也用作载体溶剂;高沸点溶剂及硝化纤维及醋酸纤维的溶剂;人造珍珠的高级溶剂。制药工业轧制药片时的润滑剂。用于电子行业,除了有独特的高纯度及低金属含量满足了半导体工业对高质量的要求,还是一种安全的有机溶解剂可用于感光材料的清洗,由光华伟业生产的乳酸乙酯在该行业应用较多。除此之外,还是农药生产中的主要有机溶剂,亦可用于涂料,油墨等领域,是当之无愧的环保溶剂。
碱性品红)总体可分类为七种,其中高纯试剂较常使用高纯试剂详细解释说明对高纯试剂或高纯元素纯度或杂质含量的检验,一般常用原子吸收光谱、原子发射光谱、色谱、质谱比色化学分析等方法进行测定。其阴离子规格原则上参照试剂优级标准,没有优级标准的产品由生产单位自行制定。根据用途不同,把高纯试剂又分成几大类:
•普通离纯试剂
是指一些高纯单质金属、氧化物、金属盐类等,常用于原子能工业材料、电子工业材料、半导体基础材料等,金属单质的氧化物、用来配制标准溶液和作为标准物质,该类试剂常要求含量在4N-6N之间。
•超净电子纯试剂
超净高纯试剂是集成电路(IC)制造工艺中的专用化学品,用于硅片清洗、光刻、腐蚀工序中。对这种高纯试剂中可溶性杂质和固态微粒要求非常严格,为适应IC集成度不断提高的需求,国际上半导体工业协会(SemiconductorIndustry Association)近来推出Semic7(适合0.8-1.2微米工艺技术)和Semic8(适合于0.2-0.6微米工艺技术)级别的试剂质量标准。我国在原有MOS
级、BV-I级试剂的基础上,又制定出BV-II级和BV-III级试剂标准(相当于Semic7)。我研究所也研制多种MOS级、BV-I级BV-II
级和部分BV-III级试剂,其颗粒度(0.5微粒颗粒)
≤25-100个∕ml,金属杂质总量≤10 -3—10 - 5
﹪
•光刻胶高纯试剂
光刻工艺是一种表面加工技术,在半导体电子器件和集成电路制造中占有重要地位。为在表面实现选择性腐蚀,采用一类具有抗蚀作用的感光树脂材料作为抗蚀涂层,称为抗蚀剂,国内通称光刻胶。按照溶解度的不同而将光刻胶分为“正性”光刻胶和
“负性”光刻胶,按所用曝光光源和辐射光源的不同,又可将其分为紫外、远紫外、电子束、X射线等光刻胶。
光刻胶是微细图形加工的一种关键试剂,要求水分低、金属杂质含量低(≤10 -6)
•磨抛光高纯试剂
是指用于硅单晶片表面的研磨和抛光的高纯度试剂。它又分磨粉(三氧化二铝)和磨液(水和油剂),能研磨表面达到微米级加工精度。这类试剂要求颗粒粒度小(纳米),纯度高,金属杂质一般要求2.0×10 -4—5×10 -5﹪
•液晶高纯试剂
液晶是一类电子化学材料,是指在一定温度范围内呈现介于固相和液相之间的中间相的有机物。它既有液态的流动性也有晶态的各向异性,有时人称他为第四态。
液晶种类繁多,用途最广,前景最大的要属TN(低档
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