怎么根据tft器件判断其制作方法

本发明涉及一种TFT基板及TFT基板的制造方法，特别地，涉及一 种具备作为TFT (薄膜晶体管)的有源层的氧化物半导体(n型氧化物半 导体层)的顶栅型的TFT基板及TFT基板的制造方法。此外，此TFT基 板及TFT基板的制造方法通过利用第二氧化物层(氧化物导电体层)形成 源布线、漏布线、源电极、漏电极及像素电极，就能够削减制造工序，并 能够降低制造成本。

背景技术：

基于显示性能、节约能源等的理由正广泛地利用LCD(液晶显示装置) 和有机EL显示装置。特别是，这些作为携带电话和PDA (个人携带信息 终端)、电脑和膝上型电脑、电视机等显示装置，基本上成为主流。在这 些显示装置中，通常使用TFT基板。例如，液晶显示装置在TFT基板和对置基板之间填充有液晶等的显示 材料。此外，此显示材料对每个像素选择地施加电压。在此，TFT基板是 配置由半导体薄膜(也称为半导体膜)等形成的TFT (薄膜晶体管)的基 板。由于TFT基板通常以阵列状配置TFT，所以也称为「TFT阵列基板J。再有，在液晶显示装置等中使用的TFT基板中，在玻璃基板上纵横地 配设TFT和液晶显示装置的画面的1像素的组(将这称为1单元)。在TFT 基板中，在玻璃基板上，例如在纵向上以等间隔配置栅布线，在横向上以 等间隔配置源布线或漏布线的一个布线。此外，源布线或漏布线的另一个 布线、栅电极、源电极及漏电极分别被设置在构成各像素的上述单元中。<TFT基板的现有制造方法>现在，作为此TFT基板的制造方法，通常已知有使用5片掩模的5 片掩模工艺、和通过半色调曝光技术使用4片掩模的4片掩模工艺等。 当前，在这样的TFT基板的制造法中，由于使用5片或4片的掩模，所以其制造工艺需要很多工序。例如，4片掩模工艺需要超过35步骤(工 序)的工序，5片掩模工艺需要超过40步骤(工序)的工序。像这样，工 序数量增多时，就会担心制造合格率下降。此外，工序数量多时，就会担 心工序变复杂，制造成本增大。 (使用5片掩模的制造方法)图54是用于说明现有例相关的TFT基板的制造方法的示意图，(a) 表示形成有栅电极的剖面图。(b)表示形成蚀刻停止层的剖面图。(c)表 示形成有源电极及漏电极的剖面图。(d)表示形成有层间绝缘膜的剖面 图。(e)表示形成有像素电极的剖面图。在图54 (a)中，在玻璃基板9210上，使用第一掩模(未图示)形成 栅电极9212。即，首先在玻璃基板9210上通过溅射堆积金属(例如Al (铝)等)。接着，使用第一掩模通过光刻法形成抗蚀剂。接着，通过按 规定的形状进行蚀刻，形成栅电极9212，灰化抗蚀剂。接着，如图54 (b)所示，在玻璃基板9210及栅电极9212上依次层 叠由SiN膜(氮化硅膜)形成的栅绝缘膜92B、及a-Si:H(i)膜9214。接 着，堆积作为沟道保护层的SiN膜(氮化硅膜)。接着，使用第二掩模(未 图示)通过光刻法形成抗蚀剂。接着，是用CFH气体以规定的形状干蚀 刻SiN膜，形成蚀刻停止层9215，灰化抗蚀剂。接着，如图54 (c)所

昕纳公司回收铟渣ito靶材废铟铟的应用简介

金属铟具有延展性好，可塑性强，熔点低，沸点高，低电阻，抗腐蚀等优良特性，且具有较好的光渗透性和导电性，被广泛应用于宇航、无线电和电子工业、医疗、国防、高新技术、能源等领域。生产ITO靶材（用于生产液晶显示器和平板屏幕）是铟锭的主要消费领域，占全球铟消费量的70%；其次电子半导体领域，占全球消费量的12%；焊料和合金领域占12%；研究行业占6%。

ITO靶材

由于铟锭具有较好的光渗透性和导电性，由高纯氧化铟和氧化锡的玻璃态复合物（ITO）在等离子电视和液晶电视屏工业中用来制作透明导电的电极，还用作某些气体测量的敏感元件。全球铟消费的70%都用来生产ITO靶材。

电子半导体和无线电领域

铟具有沸点高、低电阻和抗腐蚀等特性，在电子半导体和无线电行业也有广泛应用。有相当大部分的金属铟用于生产半导体材料。在无线电和电子工业中，铟用于制造特殊的接触装置，即将铟和银的氧化物经混合后压制而成。

铟在焊料和合金领域的应用

许多合金在掺入少量的铟之后，可以提高合金的强度、提高其延展性、提高其抗磨损与抗腐蚀的性能等，从而使铟得到了“合金的维生素”这样的美名，也有人称之为“奇妙的铟效应”。

铟合金可以用作太阳能电池的生产。铜铟镓硒薄膜太阳电池具有生产成本低、污染小、不衰退、弱光性能好等特点，光电转换效率居各种薄膜太阳能电池之首，接近晶体硅太阳电池，而成本则是晶体硅电池的三分之一，被国际上称为“下一时代非常有前途的新型薄膜太阳电池”。此外，该电池具有柔和、均匀的黑色外观，是对外观有较高要求场所的理想选择，如大型建筑物的玻璃幕墙，在现代化高层建筑等领域有很大市场。

由于延展性（可塑性）极好、蒸气压低，又能够粘附在多种材料之上，所以它被广泛用作高空仪器和宇航设备中的垫片或内衬层材料。铟箔常用作超声波线性阻滞的接触器。

在原子能工业中，铟用于制造中子的指示剂。许多铟的合金，常用于制造原子核反应堆中的控制棒。铟还是制造中子检测器的优良材料，并可以与金属镓相媲美。

金属铟在工业上最初的应用领域是制造工业轴承，在这方面的用途延续至今。轴承的表面镀上铟，轴承的使用年限比普通镀层的轴承延长5倍之多。铟和镓的合金可以对滑动元件起润滑作用因此也被用于电动真空仪器中。

铟易于在金属表面形成牢固的涂层，且有良好的抗腐蚀性能，特别是能阻止碱性溶液的腐蚀作用。铟的涂层不仅具有鲜艳的色泽而且易于抛光打磨。除了纯铟涂层之外，亦可用铟与锌等合金作为涂层。铟镀层亦用于装饰工艺方面。各种镜子、反光镜和反射器，如果表面镀上铟，则其反射性能会大大加强并耐海水的侵蚀，因此在海上船舶的反光镜常用到这种镀层。此外，表面镀铟的青铜丝网可用于排除真空仪器的汞蒸气。

由于铟的熔点较低，所以用它可制造出多种易熔合金。熔点在47～122℃范围内的这类含铟合金多用于制造各式各样的保险丝、熔断器、控温器及信号装置等。

铟的许多易熔合金用作钎焊料。甚至是纯净的金属铟本身，也极易与玻璃、石英、云母的表面润湿，且粘附得极佳。利用铟可以使压电材料制作成的零件相互牢固的焊接在一起。在制作多层集成电路时，选用含铟成分的钎焊料乃是至关重要的一步。

铟的较有发展前景的应用领域是口腔医学领域。已知用作假牙的合金基本上是以金、银和钯为主要成分并添加0.5%～10%铟的合金。牙科镶补物的材料中添加少量的金属铟之后，可以显著地提高这些镶补物抗腐蚀的能力和硬度，同时这种合金材料不会发乌。

铟产品应用简介

铟的某些化合物，如氧化物、硫化物和磷酸盐，多用于制造黄色和橙黄色玻璃，以及特种光学玻璃。含有铋或镉的铟硼酸盐玻璃，能够吸收中等强度的X光，还可以吸收比热中子能量更高的中子。

铟的卤化物，其中如碘化铟，常用作金属卤化物灯中的添加剂，旨在增强照明的输出功率和改善光谱的质量。

铟锭：梯形，表面光洁，呈白色具有金属光泽，主要供制造多种合金、特殊焊、涂层、电子及生产高纯铟等部门使用。

三氧化二铟：淡黄色，用于荧光屏，玻璃，陶瓷，化学试剂等。

氢氧化铟：用于电池，玻璃，陶瓷化学试剂等。

高纯三甲基铟：白色结晶性晶体，主要用作GAEHI 工艺外延生长含铟化合物，半导体光电功能材料的原料。

高纯氯化铟：无色或白色粉末，主要用于制荧光粉、Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体、低压纳灯、锰干电池无汞负极、（ 锌）防腐添加剂、ITO透明电池等。

铟是锗晶体管中的掺杂元素，在PNP锗晶体管生产中使用铟的数量最大。

每年铟在新用途方面的用量还以10%-20%的速度增加。

因为其较软的性质在某些需填充金属的行业上也用于压缝。如：较高温度下的真空缝隙填充材料。

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