
(1)使用外延炉等设备,进行气体纯化、四氯化硅精馏,在单晶片上生长单晶层;
(2)使用高温炉,在半导体晶体表面制备氧化层,使杂质由晶片表面向内部扩散或进行其他热处理;
(3)使用离子注入设备,将掺杂材料的原子或分子电离加速到一定的能量注入到晶体,并退火激活;
(4)使用气相淀积设备,在衬底表面淀积一层固态薄膜;
(5)使用光刻机在半导体表面掩膜层上刻制图形;
(6)使用机械加工等设备,对晶片加工形成器件台面,并对表面作钝化保护;
(7)使用电镀设备,对晶片、半导体器件、集成电路、电级材料的某些部位进行镀覆。
下列工种归入本职业:
外延工,氧化扩散工,离子注入工,化学气相淀积工,光刻工,台面成型工,半导体器件、集成电路电镀工
从事的工作主要包括:(1) *** 作破碎机、球磨机、筛粉机及辅助设备,将工业硅加工成硅粉(2) *** 作控制氢电解槽、压缩机、新华通讯社冻机、脱氧装置、干燥塔、净化设备制成高纯氢气(3) *** 作硅心炉控制硅心(4) *** 作反渗透及超滤设备将软化水提纯成高纯水(5)维护保养生产设备,处理设备运行故障,填写生产记录。下列工种归入本职业:
硅粉制备工(*),高纯氢气制取工(*),硅心制备工(*),高纯水制取工(*)
半导体厂普工招人标准如下。两班制,白班8:00-20:00,夜班20:00-08:00,上四休二,两天白班、两天夜班、休息两天,轮换转班。综合工资:约4500-5300元/月,每月10日发放上个月工资,逢节假日提前发放。应聘要求:年龄18-35周岁,男女不限,初中以上学历。持有效身份z原件(临时身份z也可),笔一支参加面试。身体健康,吃苦耐劳,无明显纹身及案底,适应无尘车间工作。正常离职三个月可返厂应聘,自离、黑名单人员不再录用。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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