请问SIC半导体与硅半导体的主要差别是什么？

    硅(Si)是研究较早的半导体材料，是第一代半导体的代表。半个多世纪以来，硅半导体技术的长足发展极大地促进了电力和电子技术的进步。尤其到了20世纪70年代，集成电路制造技术的成熟，奠定了硅在整个半导体行业中的领军地位。目前，除了极少数微波加热电源还使用真空电子管之外，几乎所有的电力和电子器件都使用Si材料来制造。尤其在集成电路中，99％以上用的都是Si半导体材料。然而随着科学的进步和半导体技术的发展，Si由于材料本身的特点在某些应用领域的局限性逐渐表现出来。例如，其带隙较窄(～1．12eV)、载流子迁移率和击穿电场较低等，限制了其在光电子领域以及高频、高功率器件方面的应用L1。       第三代半导体也称为宽带隙半导体(禁带宽度超过2．0eV)，如金刚石、碳化硅(SiC)、Ⅲ一V族氮化物、Ⅱ一Ⅵ族Zn基化合物及其固溶体等。其中以金刚石、SiC、氮化镓(GaN)和氧化锌(ZnO)为第三代半导体的代表材料。宽带隙使第三代半导体具有许多共同的性能特点，包括高熔点、高临界击穿电场、高热导率、小的介电常数、大的激子束缚能、大的压电系数以及较强的极化效应等。  SiC电学性能  SiC具有较高的临界击穿电场、高热导率和饱和电子迁移率等特点，适合于制造大功率、高温、高频和抗辐射的半导体器件。SiC热导率是si的3倍，SiC材料优良的散热性有助于提高器件的功率密度和集成度。SiC材料形态决定其禁带宽度的大小，但均大于si和GaAs的禁带宽度，降低SiC器件的泄漏电流，加上SiC的耐高温特性，使得SiC器件在高温电子工作领域优势明显。因其具有高硬度和高化学稳定性等特点，使得SiC材料能胜任恶劣的工作环境。一维SiC纳米材料具有较高的禁带宽度，可由间接带隙半导体转变为直接带隙半导体，高强高韧等特点；适用于制造在恶劣环境下使用的电子器件。

1、硅导电，硅的电导率与其温度有很大关系，随着温度升高，电导率增大，在1480℃左右达到最大，而温度超过1600℃后又随温度的升高而减小。

2、半导体（ semiconductor），指常温下导电性能介于导体（conductor）与绝缘体（insulator）之间的材料。半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。

半导体是指一种导电性可受控制，范围可从绝缘体至导体之间的材料。无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的。

扩展资料：

硅的物理性质：

有无定形硅和晶体硅两种同素异形体。晶体硅为灰黑色，无定形硅为黑色，密度2.32-2.34克/立方厘米，熔点1410℃，沸点2355℃，晶体硅属于原子晶体。不溶于水、硝酸和盐酸，溶于氢氟酸和碱液。硬而有金属光泽。

半导体：最早的实用“半导体”是「电晶体（Transistor）/二极体（Diode）」。

1、在无线电收音机（Radio）及电视机（Television）中，作为“讯号放大器/整流器”用。

2、发展「太阳能（Solar Power）」，也用在「光电池（Solar Cell）」中。

3、半导体可以用来测量温度，测温范围可以达到生产、生活、医疗卫生、科研教学等应用的70%的领域，有较高的准确度和稳定性，分辨率可达0.1℃，甚至达到0.01℃也不是不可能，线性度0.2%，测温范围-100~+300℃，是性价比极高的一种测温元件。

4、半导体致冷器的发展, 它也叫热电致冷器或温差致冷器, 它采用了帕尔贴效应。

参考资料来源：百度百科——半导体

参考资料来源：百度百科——硅

简介：南昌黄绿照明有限公司（以下简称公司）是由南昌市人民政府（通过南昌市雍盛资产经营管理有限公司投资）、南昌高新技术产业开发区管理委员会（通过南昌高新区创业投资有限公司投资）、南昌大学和技术团队四方投资设立的有限责任公司，注册资本为1亿元人民币，于2011年4月27日在南昌市高新区注册成立。公司以南昌大学“国家硅基LED工程技术研究中心” （下称“工程中心”）为技术依托，主要从事 LED专用MOCVD 装备的研发、生产和销售以及LED外延片、芯片、器件及其应用产品的研发、生产和销售等。其目标是在若干年内建成具有国际水准的MOCVD装备制造基地和LED工程中心。南昌黄绿照明有限公司与国家硅基LED工程技术研究中心，二者的建设合二为一，相互依存，共同发展，共同进步。公司已研制成功（37片/2吋）和（60片/2吋）MOCVD设备，已达到国际先进水平，部分指标优于进口设备。公司硅衬底蓝光与绿光LED外延与芯片制造技术已达到国际一流水平。公司目前正在南昌市高新区赣江之滨、艾溪湖畔建厂，实施产业化。同时实现新一代硅基LED芯片的规模化生产。

法定代表人：徐龙权

成立日期：2011-04-27

注册资本：10000万元人民币

所属地区：江西省

统一社会信用代码：91360106573609761P

经营状态：存续（在营、开业、在册）

所属行业：制造业

公司类型：其他有限责任公司

人员规模： 100-499人

企业地址：江西省南昌市南昌高新技术产业开发区艾溪湖北路699号101#主厂房一层

经营范围：光电材料、芯片、器件、设备及其应用产品的研发、生产、销售技术引进、转让、咨询、服务自营和代理各类商品和技术的进出口业务。(以上项目国家有专项规定的除外)**

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