半导体行业有用到超声波清洗机吗?

有啊，比如清洗半导体硅片。随着半导体材料技术的发展，对硅片的规格和质量也提出更高的要求，适合微细加工的大直径硅片在市场的需求比例将日益加大。半导体,芯片,集成电路,设计,版图,芯片,制造,工艺目前世界普遍采用先进的切、磨、抛和洁净封装工艺，使制片技术取得明显进展。最新尖端技术的导入，使SOI等高功能晶片的试制开发也进入批量生产阶段。对此，硅片生产厂家也增加了对300mm硅片的设备投资，针对设计规则的进一步微细化。利用超声波清洗技术，在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，带动清洗液形成细微回流，使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，提高清洗效率。

超声波清洗方法及其放置方向

将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上，在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下，利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗，超声波频率为40KHz，每5分钟将研磨硅片翻一个面，连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止。超声波清洗单晶硅片装置清洗槽的槽壁上设有进水口和出水口，槽底部下方设有超声波振子，清洗槽槽内设有一搁置单晶硅片的框架，框架底壁为栅栏状的石英棒形成的平面低于去离子水水平面，整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内。

具体实施时，石英棒距离清洗槽的底壁为15厘米。清洗时，单晶硅片可以平置在石英棒上，将现有的竖超洗改成平超洗，消除了单晶硅片在竖超洗状态下，污染物会残留堆积在硅片表面，形成局部区域清洗不干净，以及承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡掉超声波源的传递，从而造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象，具有结构更简单、用水量大大减少的优点。

(1)由于石英玻璃具有优良的耐高温性能，因此被广泛应用于冶金、化工等工业需要耐高温的设备中。 (2)广泛应用于核工业和航空航天领域中，火箭、飞船的观察窗及保温外壳就是用石英玻璃制作的。 (3)由于石英玻璃在高温下的化学稳定性，是其他工程材料无法比拟的，因此被广泛应用于化工、制药等工业中。 (4)由于石英玻璃耐高温且透过率高，因此被广泛应用于国防军工以及新型电光源等高科技领域。 (5)由于石英玻璃具有极佳的光谱特性，不仅可以透过可见光，而且可以透过红外线、紫外线，因此被广泛应用于微电子、信息、激光及天文学中，光导纤维就是用石英玻璃制成的。 (6)因采用连续熔化工艺制造的小口径透明或不透明石英玻璃管成本低廉，但又不失耐高温的特性，所以被大量用于对石英玻璃品质要求不太高的电光源行业和远红外发热器上. (7)因石英玻璃的高纯度、耐高温、低的热膨胀性等优良性能而被大量用于电子工业的生产中，如在对单晶硅片进行掺杂、扩散、氧化、退火等关键工序中使用的石英玻璃扩散管；硅片外延工序使用的石英钟罩；硅片酸洗和超声波清洗工序使用的花篮、支架；硅片扩散工序使用的硅片承载器(石英玻璃舟)；拉制单晶硅工序中使用的石英坩埚等都是用石英玻璃制成的。 (8)为防止污染，提高产品的纯度，在多晶硅生产中用的精馏塔、挥发器(鼓泡器)以及进料管大都采用石英玻璃制造。

常用超声波清洗机频率是多少?

超声波频率越低，在液体中产生的空化越容易，产生的力度大，作用也越强，适用于工件粗、脏、初洗，频率高则超声波方向性强，适合于精细的物件清洗，所以常用超声波清洗机频率是28khz、40khz。

比如：

15KHZ:通常使用于焊接作业，也有聚焦式超声波利用圆柱型介质当传导体,使强力声波透过介质做强力洗净。

28KHZ:较适合初期清洗,适合电镀业及五金机械业。

40KHZ:较适合中期清洗,适合晶圆.LCD半导体.光电.太阳能板.玻璃基板.PC板。

80KHZ:较适合后期清洗,可有效清除尘埃。

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