nikon曝光机工作原理

曝光机是20世纪60年初扫描电子显微镜基础发展而来的一种新光刻技术 ，在70年代后广泛应用于半导体电路板生产制造。曝光机即电子串曝光机，是集电子光学、机械、真空、电气、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备。

曝光机基本工作原理：

在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。根据电路板的线路的粗细来决定上下光源的曝光能量，能量不足电路板无法曝光，要是能量过高电路板就会过曝，所以在曝光电路板时，必须先测试电路板所需的能量，从而进行电路板的曝光生产。

科视LED曝光机的优点：

1、均匀度 90% 以上

2、线路板解析度可达到50μm。

3、节能 80% ，四年内无需更换灯管，无冷却水消耗

4、紧密的光学组合，使光源投射的平行半角小于2°

5、曝光面积为：1000mm×750mm/1300mm×750mm/1500mm×750mm

6、真空盖板自动升起，避免员工繁重的体力劳动

7、LED逐点校正系统实时，实时监控每个发光单元的强度状态

8、超高能量，能有效取代8KW/10KW12KW传统汞灯阻焊曝光机，曝光时间为 20秒

原子、分子和某些半导体材料，能分别吸收和放出一定波长的光或电磁波。根据固体能带论，半导体中电子的能量状态分为价带和导带，当电子从一个带中能态E1跃迁(转移)到另一带中的能态E2时，就会发出或吸收一定频率(υ)的光。υ与能量差(ΔE=E2-E1)成正比，即

υ=ΔE/h (Hz)

此式称为玻尔条件。式中h=6.626×10-34J·s。当发光二极管工作时，在正偏下，通常半导体的空导带被通过结向其中注入的电子所占据，这些电子与价带上的空穴复合，放射出光子，这就产生了光。发射的光子能量近似为特定半导体的导带与价带之间的带隙能量。这种自然发射过程叫作自发辐射复合（图1）。显然，辐射跃迁是复合发光的基础。注入电子的复合也可能是不发光的，即非辐射复合。在非辐射复合的情况下，导带电子失去的能量可以变成多个声子，使晶体发热，这种过程称为多声子跃迁；也可以和价带空穴复合，把能量交给导带中的另一个电子，使其处于高能态，再通过热平衡过程把多余的能量交给晶格，这种过程称为俄歇复合。随着电子浓度的提高，这种过程将变得更加重要。带间跃迁时，辐射复合和非辐射复合的两种过程相互竞争。有的发光材料表现为辐射复合占优势。

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