
光刻的重要部分遮光罩(mask)本身是方形的,它是由很多方格组成,每个方格叫做一个shot,它是曝光的最小单位。Shot包括一个或多个Die,外加一下外围测试电路。因为shot是方形的,所以每个小格也是方形的,整个mask是他们的集合。
火车上,提交的时候断网了,又要输一遍,悲催啊!!!这个shot map不是封装的术语,纯粹是光刻的,而且是只针对投影式步进光刻的。在stepper光刻机中,reticle的图形被缩小投影到wafer表面,曝光wafer上的光刻胶。reticle一般尺寸是5寸或者6寸,而缩小的倍率一般是4倍或者5倍,最后得到的曝光范围是小于50mm的,一般是30mm左右见方。而对于wafer,从2寸到12寸,一次投影是不能完成整个面积的,必须要多次投影曝光才能覆盖整个wafer。shot,指的就是一次投影曝光,很形象的命名,就像照相机在照相的时候闪光灯flash一下。map,半导体领域常用于表示某种分布,也是很形象的命名,用的很广泛。shot map,顾名思义,多次投影曝光在wafer上的分布。不同的产品,分布是不同的,甚至shot也是不同的,所以需要综合考虑。半导体材料分为空穴和电子两种不同类型霍尔片的区别为:1、形成的不同原因:在外加电场中,p型半导体中的电子依次以电场的相反方向填充空穴,空穴沿电场的方向运动。空穴可以被认为是带正电荷的粒子,它的运动通过取代电子的运动来解释p型半导体中电流的形成。通过自由电子的定向运动而导电的行为。
2、不同的机制:孔由于净正电荷,所以会吸引其他电子,使电子运动更容易在半导体中,可以发现,似乎洞传导是净正电荷吸引其他电子带正电荷的转变,实际上事实上仍然是电子传导,移动洞只是正电荷等价的。
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
微信扫一扫
支付宝扫一扫
评论列表(0条)