spacer工艺的作用

栅极侧壁的表面保护。spacer工艺是一种自对准的双重成像技术，采用的是微光纳米技术，可以作用在栅极侧壁表面的保护层，用来防止半导体结构形成工艺过程中，栅极侧壁表面受到损伤，延长栅极侧壁的使用时间。

半导体的范围广泛，应用从科研到民生，日新月异:

1.制造工艺需根据半导体设计的层层不同而不同，2.为避免复杂繁琐导致质量问题，制造工艺流程基本上分三个工程段落，

2.1.模组及应用设计工程，模拟数据

2.2.前工程

2.3.后工程封测

每个阶段都有上百到三百种以上的工艺，至少需要学习10-30年

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