除了光刻半导体工艺中还有哪些图形化技术？

1. 用电子束（E-beam Lithography），好处是精度极高，目前实验室级别的E-beam最小可以写到1纳米，不需要Mask。但是因为精度高，所以写片子的时候速度会很慢。。

2. Micro-printing（类似于刻字印刷那种样子~），不是太了解，实验室不怎么用这个，精度貌似不是很好

3. 激光（Laser Lithography），好处是不需要Mask，直接往Resist上写，因为精度不如e-beam好，所以pattern都比较大，因此速度快。

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我当你说的光刻半导体工艺是传统用紫外灯做的Photo-Lithography了哈~

4. 传统光刻（Photo-lithography），这个其实速度也是很快的，实际的曝光时间只有几秒甚至更少。一般对精度要求不高的片子我们都用这个写。唯一缺点是每一个新的设计都要重新做一个Mask。

大日本网屏此前销售过半导体工艺用清洗装置“SS-3100”等，这些装置都配备了向晶圆表面喷射液体超微粒子的喷射清洗技术“Nanospray2”。不过，32nm以后的工艺方面，随着工艺的微细化，电路图案的尺寸越来越细，使用以前的技术进行喷射清洗时，电路图案遭到破坏的危险性越来越大。比如，在以前的技术中，液滴的大小、喷射速度及喷射方向等不均匀。因此，为确保清洗能力，需要使液滴的大小和喷射速度的平均值保持在一定值以上，这样就会含有尺寸大且喷射速度高的液滴，从而导致图案的损坏。

对此，DNS在继承Nanospray2技术基本思路的基础上，开发出了分别控制液滴大小、喷射速度及喷射方向的“Nanospray Advance”技术。新开发出了可逐粒喷射大小相同的液滴的喷头，利用该喷头抑制了液滴的尺寸、喷射速度及喷射方向的不均现象。由此，可将液滴能量的不均匀性降至1/100左右，并能够在确保清洗能力的同时抑制对电路图案的损坏。喷头可喷射的液滴量为数千万粒/秒。

“Nanospray Advance”清洗技术将在2010年12月举行的“SEMICON Japan 2010”上展出。另外，在此次的SEMICON Japan上，DNS还将把LED及功率半导体用晶圆清洗装置“CW-1500”作为新产品展示，并参考展出高亮度LED用纳米压印装置“XI-1000”。此外，还预定展出“SU-3100”“FC-3100”“SS-3100”等各种清洗装置、闪光灯热处理装置“LA-3000-F”、涂布显像装置“SOKUDO DUO”以及结晶类太阳能电池PSG膜气相清洗装置“RS-C810A/810L”等。

比较忙.。

南方科技大学与电子信息工程专业相关的专业如下：

1.电路与系统：

主要研究领域 :大规模集成电路、智能系统、机器学习、大数据分析、物联网、无线网络和通信等。

特色与优势 :围绕智能系统与计算智能，聚焦集成电路设计、自主系统、智能感知与认知、大数据分析、多智慧体协同网络等，及其在自动驾驶、无人机、智能物流、智慧城市等领域的应用。

2.微电子学及固体电子学

主要研究领域 :第三代半导体器件、纳米压印及微流控器件、MEMS和微纳传感器、三维集成、IC设计等。

特色与优势 :围绕半导体材料与器件，聚焦先进CMOS、GaN器件研究、生物微流传感

器和超高精度表面图形化技术，应用领域包括移动智能设备、无线传感网络、绿色能源等。

3.物理电子学

主要研究领域 :能源光子学、信息显示与照明、微纳光子学、太赫兹光子学、先进光子学材料和器件等。

特色与优势 :聚焦量子点、钙钛矿等光电材料和器件中存在的共性关键科学问题，揭示光子/激子/声子/等离激元在超小空间尺度和超快时间尺度上相互作用的物理规律，探索在能源光子学等领域的应用。

自2016年起，南科大电子与电气工程系与哈尔滨工业大学、香港大学、新加坡国立大学、华威大学、伯明翰大学等10多所国际一流高校采用课程共建，学分互认、共同导师、联合课题、实验室共建等形式开展研究生联合培养，毕业生可获得合作大学学位和南科大学习证明。

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