
第二个好消息是,国产光刻机巨头上海微电子目前已经表示,新一代的光刻机会在今年年底或者是明年年初实现量产,而在光源系统之中,采用了与阿斯麦DUV光刻机一样的光源技术,波长突破了193纳米。这就意味着国产代工企业将在今年或者是明年年底就能够实现7纳米工艺的代工水平,并且是在没有阿斯麦光刻机的情况之下。
可以说光刻机领域之中接连传来这两个好消息,对于我们而言,对于国产芯片未来的发展而言,起到了一定推促的促进作用,毕竟一直以来在光刻机领域之中,荷兰的阿斯麦占据绝对的垄断地位,尤其是在极紫外光刻机领域之中,更是处于绝对垄断的地位。
而国内在芯片上的短板就是因为缺少极紫外光刻机,所以导致中国企业没有办法生产出7纳米以及5纳米这样先进制程工艺的芯片。2018年,中芯国际曾经从阿斯麦买订购过一台euv光刻机,但是说到瓦森纳协定的影响,阿斯麦至今都没有出货这台EUV光刻机
后面中兴以及华为的限制使得国内科技企业自主研发的意识被彻底唤醒,于是在这样的情况之下,所有的国内厂商将希望全部中寄托在了中国光刻机企业身上。为了解决这一难题,华为在第一时间就宣布扎根半导体领域,另外,中科院也宣布入局光刻机,并且将光刻机变成科研清单。
好在伴随着时间的推移,如今一个又一个的好消息传来。关于光刻机的两个好消息传来,意味着中国心再次迎来了春天。而这对于阿斯麦来讲当然不是什么好事情。
北大教授曾经说过这样一句话,如果中国依旧拿不到阿斯麦的光刻机,那么在三年之后,中国就将会掌握这项技术,并且一旦中国掌握了这项技术,那么其生产的产本成本一定比任何一个国家都要便宜。
北大教授的这一番话,可以说对于阿斯麦来讲,更是一个重磅炸d,失去中国市场的阿斯买强会面临地位的威胁,如今日本的尼康以及佳能正在不断崛起,挑战这阿斯麦所在的地位,如果中国真的掌握了光刻机技术,那么阿斯麦想要在进入国内市场基本上没有可能,更不要提凭借中国市场稳固其地位的梦想了。
光刻机的问题解决了,那么芯片的问题自然也就不是问题了。早在芯片禁令实施之初,张召忠就曾经公开表示,再过三年,美国的芯片将会无人购买,因为到那个时候,中国的芯片将会到处都是。
如今看起来,张召忠果然没有说错,相信过不了多久,我们在芯片领域也一定会迎来一定的突破,中国芯片在未来一定会拥有更好的发展,而对中国企业实行打压的硅谷,在将来也一定会尝到失去中国市场的苦果。
2020年底,一场席卷全球的“缺芯”危机持续蔓延,华为首当其冲, 汽车 产业也陷入了危机, 福特、丰田、本田、大众等厂商纷纷减产甚至停工 。我们都知道, 中国在技术和设备方面被卡了脖子,消费市场需求的全面回升加上芯片禁令,供不应求,导致了这场危机的加剧 。
台积电和三星是目前国际上最好的芯片代工公司,之前华为和这两家紧密合作,一年数百亿的订单量在禁令下戛然而止。目前台积电的芯片生产水平已经到达了5NM,而内地最好的中芯国际,目前的水平是n+1。n+1趋近于7nm工艺制程,但是性能上并不等同于7nm工艺制程,是低配版。 如果EUV光刻机无法到货,按照中芯国际当前的技术实力来看,只能够代工趋近于7nm工艺制程的n+1芯片。
比尔盖茨早在2020年9月的一次采访中表示:“不卖给中国芯片,将令美国失去一批高薪工作,更是强迫中国芯片自给自足。” 从目前看来,比尔盖茨确实有远见,他的预言正在中国上演。国人正在为国产芯片不懈努力,开启了一条自给自足的道路。
面对美国无休止的打压,中国企业发展受阻,这样国家更坚定了自研EUV光刻机的决心。 去年9月,中科院正式宣布,正式成立光刻机研发小组 ,致力于在短时间内自主研发出国产EUV光刻机,为国内企业的发展保驾护航。
2月25日,好消息传来,清华大学在EUV光刻机关键技术上取得的重大突破。据官方公布信息显示,清华大学工物系在新型加速光源“稳态微聚束”(SSMB)研究过程中,发现一种 新型的粒子加速光源,且这种光源最直接的应用就是EUV光刻机 。
虽然我国的半导体行业的整体水平与西方发达国家存在着一定的技术差距,我们取得的EUV光刻机关键技术还很少,但笔者相信 在各方的携手共进下,国产芯片定能迎来曙光 ,让我们一起拭目以待。
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