
西安易恩电气 EN-2005C是一款很具有代表性的新型半导体晶体管图示系统,本系统可自动生成功率器件的I-V曲线,也可根据客户的实际需求设置功能测试,直接读取数显结果。系统在失效分析,IQC来料检验及高校实验室等部门有广泛的应用。系统生成的曲线都使用ATE系统逐点建立,保证了数据的准确可靠。系统典型的测试时间是6 to 20ms,通常上百个数据点曲线只需要几秒钟时间便可以展现出来,数据捕获的曲线可导入EXCEL等格式进一步分析研究,是一款高效多功能的高端半导体测试设备。
测试范围 / 测试参数
01
二极管
DIODE
IR;BVR ;VF
02
晶体管
(NPN型/PNP型)
ICBO;ICEO;ICER; ICES; ICEV;IEBO;BVCEO ;BVCBO;
BVEBO;HFE;VCESAT;VBESAT;VBE(VBEON);RE;VF
03
J型场效应管
J-FET
IGSS;IDOFF;IDGO;BVDGO;BVGSS;VDSON,VGSON;
IDSS;GFS;VGSOFF
04
MOS场效应管
MOS-FET
IDSS;IDSV;IGSSF; IGSSR;VGSF;VGSR;BVDSS;
VGSTH;VDSON、VF(VSD) IDON;VGSON;RDSON;GFS
05
双向可控硅
TRIAC
VD+;VD-;VT+ ; VT-;IGT;VGT ;IL+;IL-;IH+;IH-
06
可控硅
SCR
IDRM;IRRM;IGKO;VDRM;VRRM;BVGKO;VTM;
IGT;VGT;IL;IH
07
绝缘栅双极大功率晶体管
IGBT
ICES;IGESF;IGESR;BVCES;VGETH;VCESAT;ICON;
VGEON;VF;GFS
08
硅触发可控硅
STS
IH+; IH-;VSW+ ; VSW-;VPK+ ;
VPK-;VGSW+;VGSW-
09
达林顿阵列
DARLINTON
ICBO; ICEO;ICER;ICES;ICEX;IEBO;BVCEO;
BVCER;BVCEE;BVCES ;BVCBO;BVEBO;hFE ;
VCESAT; VBESAT;VBEON
10
光电耦合
OPTO-COUPLER
ICOFF、ICBO;IR;BVCEO;BVECO;BVCBO;BVEBO;
CTR;HFE;VCESAT; VSAT;VF(Opto-Diode)
11
继电器
RELAY
RCOIL;VOPER;VREL;RCONT;OPTIME; RELTIME
12
稳压、齐纳二极管
ZENER
IR;BVZ;VF;ZZ
13
三端稳压器
REGULATOR
Vout;Iin;
14
光电开关
OPTO-SWITCH
ICOFF;VD;IGT;VON;ION ;IOFF
15
光电逻辑
OPTO-LOGIC
IR;VF;VOH;VOL;IFON; IFOFF
16
金属氧化物压变电阻
MOV
ID+ ID-;VN+; VN-;VC+ ;VCLMP-;VVLMP+ ;
17
固态过压保护器
SSOVP
ID+ ID-;VCLAMP+, VCLAMP-;VT+、VT-;IH+、
IH-;;IBO+ IBO-;VBO+ VBO-;VZ+ VZ-
18
压变电阻
VARISTOR
ID+; ID-;VC+ ;VC-
19
双向触发二极管
DIAC
VF+,VF-,VBO+,VBO-,IBO+,IBO-,IR+,IR-,
BM1430转移特性曲线,在场效应管漏源电压保持不变的情况下,从图8-4中可以得出以下结论:栅源电压UGs=0时,漏极电流D=Dss。栅源电压UGs向负值方向变化时,漏极电流ID逐渐减小。栅源电压UGs=UP时,漏极电流JD=0。rDss称为饱和漏极电流,UP称为夹断电压。输出特性曲线 输出特性曲线是表示在栅源电压一定条件下,漏极电流与漏源电压之间的关系,如图8-5所示。电阻区、放大击穿区、截止区。由场效应管组成的放大电路中,场效应管必须工作在放大区,即必须采用合适的直流电流将其工作点(UDs,rD)设置于输出特性曲线的放大区或恒流区,且保持稳定。与三极管放大电路相类似,场效应管放大电路有共源、共漏、共栅二种接法。绝缘栅型场效应管,绝缘栅场效应管是一种栅极与源极、漏极之间有绝缘层的场效应管,简称MOS管。绝缘栅场效应管也有N沟道型及P沟道型两种结构形式。无论是N沟道型或P沟道型,都有增强型和耗尽型两种。N沟道增强型绝缘栅场效应管 以P型硅片作为衬底.其间扩散两个高掺杂的N・区并引出两个电极,作为源极S和漏级D。制作场效应管时先在半导体上制作Sio2绝缘层,之后在Sio2上制作一层金属铝,引出电极作为栅极G,此时的P型半导体称为衬底B。N沟道增强型绝缘栅场效应管的结构及符号如图8-6所示,N沟道增强型绝缘栅场效应管的结构及符号,场效应管可看作一个受栅源电压控制的,可当yDs增剧增,出现电击穿。如果对此不加限制,将损坏场效应管。不允许场效应管工作在这个区域,rD-IV恒流区场效应管,在恒流区具有线性放大作用,-2V截止区-41栅极P衬底.缘栅型场效应管的特点是输入电阻高,噪声小。在通常情况下.源极一般都是与衬底相连.即Us=0。为保证N沟道增强型MOs管正常工作,应达到如下条件。UGs=0时,漏源之间是相当于两只背靠背的PN结,不论UDs极性.两个PN结中总有一个PN结反偏,即不存在寻电沟道。LIGs必须大于0(UGs>0),场效应管才能工作。漏极对源极的电压UDs必须为正值(UDs)0)。在漏极电压作用下,源区电子沿导电沟道行进到漏区,产生自漏极流向源极的电流。N沟道增强型绝缘栅场效应管的工作原理,当UGs=0,在漏、源极之问加正向电压UDs时.漏源极之P衬底MoSFET是利用栅源电压的大小,来改变半导体表面感生电荷的多少,从而控制漏极电流的大小。N沟道增强型绝缘栅场效应管的工作原理.BM1430转移特性曲线,在场效应管漏源电压保持不变的情况下,从图8-4中可以得出以下结论:栅源电压UGs=0时,漏极电流D=Dss。栅源电压UGs向负值方向变化时,漏极电流ID逐渐减小。栅源电压UGs=UP时,漏极电流JD=0。rDss称为饱和漏极电流,UP称为夹断电压。输出特性曲线 输出特性曲线是表示在栅源电压一定条件下,漏极电流与漏源电压之间的关系,如图8-5所示。电阻区、放大击穿区、截止区。由场效应管组成的放大电路中,场效应管必须工作在放大区,即必须采用合适的直流电流将其工作点(UDs,rD)设置于输出特性曲线的放大区或恒流区,且保持稳定。与三极管放大电路相类似,场效应管放大电路有共源、共漏、共栅二种接法。绝缘栅型场效应管,绝缘栅场效应管是一种栅极与源极、漏极之间有绝缘层的场效应管,简称MOS管。绝缘栅场效应管也有N沟道型及P沟道型两种结构形式。无论是N沟道型或P沟道型,都有增强型和耗尽型两种。N沟道增强型绝缘栅场效应管 以P型硅片作为衬底.其间扩散两个高掺杂的N・区并引出两个电极,作为源极S和漏级D。制作场效应管时先在半导体上制作Sio2绝缘层,之后在Sio2上制作一层金属铝,引出电极作为栅极G,此时的P型半导体称为衬底B。N沟道增强型绝缘栅场效应管的结构及符号如图8-6所示,N沟道增强型绝缘栅场效应管的结构及符号,场效应管可看作一个受栅源电压控制的,可当yDs增剧增,出现电击穿。如果对此不加限制,将损坏场效应管。不允许场效应管工作在这个区域,rD-IV恒流区场效应管,在恒流区具有线性放大作用,-2V截止区-41栅极P衬底.欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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