半导体硫酸去胶温度

半导体硫酸去胶温度,第1张

70℃至100℃。半导体硫酸去胶温度在70℃至100℃,如果溶液不是新配溶液,需向溶液中加入150ml双氧水溶液。半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导体在消费电子、通信系统、医疗仪器等领域有广泛应用。如二极管就是采用半导体制作的器件。

电子级硫酸按照超净高纯试剂SEMI国际标准等级划分,可分为G1、G2、G3、G4、G5五个类别,其中,G1属于低档产品,G2属于中低档产品,G3属于中高档产品,G4和G5属于高档产品,G2、G3、G4、G5四个等级分别对应国内产品纯度等级UP、UP-S、UP-SS、UP-SSS。

电子级硫酸又称高纯度硫酸、超纯硫酸,属于超净高纯试剂,是一种微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化学试剂,是半导体工业常用的八大化学试剂之一。电子级硫酸广泛用于半导体、超大规模集成电路的装配和加工过程,主要用于硅晶片的清洗和刻蚀,可有效去除晶片上的杂质颗粒、无机残留物和碳沉积物。


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