半导体硅片工艺中有一个是 RCA cleaning

半导体硅片工艺中有一个是 RCA cleaning,第1张

RCA cleaning 就是采用RCA方法来清洗的意思.

RCA是一种典型的、普遍使用的湿式化学清洗法,该清洗法主要包括以下几种清洗液:

(1)SPM:H2SO4 /H2O2 120~150℃ SPM具有很高的氧化能力,可将金属氧化后溶于清洗液中,并能把有机物氧化生成CO 2和H2O.用SPM清洗硅片可去除硅片表面的重有机沾污和部分金属,但是当有机物沾污特别严重时会使有机物碳化而难以去除.

(2)HF(DHF):HF(DHF) 20~25℃ DHF可以去除硅片表面的自然氧化膜,因此,附着在自然氧化膜上的金属将被溶解到清洗液中,同时DHF抑制了氧化膜的形成.因此可以很容易地去除硅片表面的Al,Fe,Zn,Ni等金属,DHF也可以去除附着在自然氧化膜上的金属氢氧化物.用DHF清洗时,在自然氧化膜被腐蚀掉时,硅片表面的硅几乎不被腐蚀.

(3)APM (SC-1):NH4OH/H2O2 /H2O 30~80℃ 由于H2O2的作用,硅片表面有一层自然氧化膜(SiO2),呈亲水性,硅片表面和粒子之间可被清洗液浸透.由于硅片表面的自然氧化层与硅片表面的Si被NH 4OH腐蚀,因此附着在硅片表面的颗粒便落入清洗液中,从而达到去除粒子的目的.在 NH4OH腐蚀硅片表面的同时,H2O 2又在氧化硅片表面形成新的氧化膜.

(4)HPM (SC-2):HCl/H2O2/H2 O 65~85℃ 用于去除硅片表面的钠、铁、镁等金属沾污.在室温下HPM就能除去Fe和Zn.

清洗的一般思路是首先去除硅片表面的有机沾污,因为有机物会遮盖部分硅片表面,从而使氧化膜和与之相关的沾污难以去除;然后溶解氧化膜,因为氧化层是“沾污陷阱”,也会引入外延缺陷;最后再去除颗粒、金属等沾污,同时使硅片表面钝化.

光伏电池rca是指薄膜电池。根据查询相关资料信息显示:光伏电池根据半导体材料的不同分为晶硅太阳能电池和膜电池,此电池为RCA实验室开发,也称为rca电池,故光伏电池rca是指薄膜电池。

不是一个意思,rca是指接口,同轴是输出标准。

rca其实就是莲花头,rca是发明公司的缩写,长久使用就成了莲花头约定俗成的名字

同轴SPDIF是一个输入输出的标准名称,一般接口为rca和bnc两种

一般音响设备上同轴线会有COAXIAL作标识,同轴线不管接头是rca还是bnc,标准阻抗都是75Ω,可保证阻抗恒定,确保信号传输正确。

也就是说在传输的线材搭配上,应该是以适用于传输高频率数字讯号的75欧姆同轴线材作为搭配标准,也就是一般常说的“数字线。

而连接dac和耳放、功放的rca线则没有类似标准定义,随便什么两端都是公莲花的头都可以用了。

扩展资料:

RCA端子在最普通用途上,电线两端均有个标准插头,存在一个正中央的公头接端,以环包围,此环有时因灵活性而舍弃。装置上则装有插口,存在一个以金属内环包围而正中央的小孔。插口的外环直径比插头的较小,以容许插头稳置插上。

插口上内外环之间以绝缘体充填,通常以塑胶充填。

起源

RCA端子也被“留声机接口”,因为起初这种端子是设计来连接留声机和无线电接受装置——半导体收音机诞生之前的事情。

美国无线电公司在1930年代的大多收音机中采用了这样的连接方式,也正是这种接头得名的原因。

参考资料来源:百度百科-RCA


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