半导体中怎么depfilm

使用溅射技术可以在半导体表面形成depfilm，溅射技术可以将原料形成液体或气体，然后用高能离子束将其射向半导体表面，形成一层薄膜。另外，还可以使用CVD或PECVD技术，将原料化学气相沉积在半导体表面，从而形成depfilm。

你说的这个应该是一个LTPS中的工艺，叫GI Deposition

也就是GI层沉积。GI是TFT中，栅极金属和半导体Si之间的绝缘层，通常为SiNx/SiOx称之为Gate Insulator 栅极绝缘层。

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