
半导体材料的电阻率与温度有密切的关系。
温度升高,半导体的电阻率会明显变小。例如纯锗(Ge),温度每升高10度,其电阻率就会减少到原来的一半。
N型半导体也称为电子型半导体。N型半导体即自由电子浓度远大于空穴浓度的杂质半导体。在纯净的硅晶体中掺入五价元素(如磷),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了N型半导体。
在N型半导体中,自由电子为多子,空穴为少子,主要靠自由电子导电。自由电子主要由杂质原子提供,空穴由热激发形成。掺入的杂质越多,多子(自由电子)的浓度就越高,导电性能就越强
n型半导体费米能级随温度变化曲线:载流子数目可以用费米-狄拉克函数描述,从该函数可以看到,载流子数目取决于费米能级位置(可通过掺杂调控)和温度。温度升高后,载流子数目升高。
费米衡量电子占有能级的几率问题,在其下几率大于二分之一,其上小于二分之一。费米能级由材料决定,掺杂为p型,费米靠近价带,n型相反。费米影响功函数,费米大,功函数小,则电流注入效率高。
物理意义
对于金属,绝对零度下,电子占据的最高能级就是费米能级。费米能级的物理意义是,该能级上的一个状态被电子占据的概率是1/2。在半导体物理中,费米能级是个很重要的物理参数,只要知道了它的数值,在一定温度下,电子在各量子态上的统计分布就完全确定了。
我以N型半导体给你举一个例子:单位体积的硅原子数为10^22cm^-3,若杂质含量为10^-4(万分之一),则杂质原子浓度为10^18cm^-3。在常温下,杂质能级上的电子即使只有十分之一被激发到导带中,其浓度也为10^17cm^-3。而常温下硅的本征载流子浓度只有10^10cm^-3的量级。可见N型半导体中多数载流子是电子,而少数载流子是本征载流子(电子空穴对)。可见,在室温附近,许多元素半导体本征载流子为数极少,所以本征半导体电阻仍很高。而在同一温度下,掺杂半导体的导电能力为本征半导体的数百倍及其以上。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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