
半导体制冷片的好坏可以采用万用表测量其电阻,电流或者电压来进行判断,半导体制冷片电阻正常范围为0-0.05欧,半导体制冷片电流正常范围为0-0.09安,半导体制冷片电压正常范围为0-0.1伏。
1、首先需要将万用用笔两只表笔接在半导体制冷片和地线上,分红线和黑线,红线是连接半导体制冷片的正极,黑线是连接半导体制冷片的负极。
2、接下来确定是通过测半导体制冷片交流电流还是半导体制冷片直流电流来验证好坏,是直流电压,则要把档位调到如图直流区,接在测量的线路上。
3、线路是220v的话是选用黑线,如果是测半导体制冷片交流电流,则把档位调至交流电流档区,直流电流和交流电流对应两种不同的档位。
4、将红黑表笔插入排差,万用表读出数值00.4A。有数字显示即为正常的半导体制冷片线路的电流数字,则证明半导体制冷片良好。
扩展资料:
使用注意
1、在使用万用表之前,应先进行“机械调零”,即在没有被测电量时 ,使万用表指针指在零电压或零电流的位置上。
2、在使用万用表过程中,不能用手去接触表笔的金属部分 ,这样一方面可以保证测量的准确,另一方面也可以保证人身安全。
3、在测量某一电量时,不能在测量的同时换档,尤其是在测量高电压或大电流时 ,更应注意。否则,会使万用表毁坏。如需换档,应先断开表笔,换档后再去测量。
参考资料来源:百度百科-万用表
近日,南大光电发布公告称,其承担的国家02专项ArF光刻胶项目取得重大进展,并且通过了专家组验收。目前已建成年产25吨的ArF光刻胶产业基地,可用于90nm-14nm,甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。
众所周知,光刻胶是芯片制造不可或缺的重要原料,是光刻机进行硅膜片曝光、设计图案印章的核心材料。ArF 光刻胶材料主要应用于高端芯片制造,目前我国在ArF、KrF光刻胶领域中的市场占比较少,全球大多数的光刻胶市场都被美国、日本垄断。
对于国产半导体行业来说,南大光电7纳米光刻胶的交付,具有十分重要的意义,一方面能够缓解我们在半导体领域中,特别是芯片代工领域中,被芯片原料卡脖子的难题;另一方面有助于加快我们在芯片代工领域中实现自给化目标的脚步。
需要注意的是,有关 7 纳米 ArF 光刻胶的应用,南大光电目前只是小规模投产,与之相关的生产线正在构建当中。在公告中,南大光电也表示,ArF 光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险,不仅需要技术攻关,还需要在应用中进行工艺的改进、完善。
但不管怎么说,这次南大光电完成7纳米光刻胶的验证,对于自身,对于国产半导体行业来说是一件好事情。至少可以保证我们不会在光刻胶领域中被国外彻底卡住,相信只要坚持下去,假以时日,一切难题都会迎刃而解。
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