上海微电子装备有限公司的产品介绍

600扫描光刻机系列—前道IC制造

基于先进的扫描光刻机平台技术，提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需，包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。

500步进光刻机系列—后道IC、MEMS制造

基于先进的步进光刻机平台技术，提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用高功率汞灯的ghi线作为曝光光源，其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺，以及TSV-3D结构等具有良好的自动适应性，并通过采用具有专利的图像智能识别技术，无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点，可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。

200光刻机系列—AM-OLED显示屏制造

200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术，专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线，也可用于基板尺寸为G2.5(370mm × 470mm)和G4.5(730mm × 920mm)的AM-OLED显示屏量产线。

硅片边缘曝光机系列——芯片级封装工艺应用

SMEE开发的硅片边缘曝光机提供了满足芯片级封装工艺中对硅片边缘进行去胶处理的能力，设备可按照客户要求配置边缘曝光宽度、硅片物料接口形式、曝光工位等不同形式。设备同时兼容150mm、200mm和300mm等三种不同规格的硅片，边缘曝光精度可到达0.1mm。设备配置了高功率光源，具有较高的硅片面照度，提高了设备产率。

精密温控系列—光刻机、刻蚀机应用

SMEE为集成电路行业提供多种超/高精度温度控制装置，可分别用于半导体前道设备中的扫描光刻机和各种用途的刻蚀机等设备的精密温度控制，也可应用于精密光学、仪器、精密机床制造及各种科学实验场所。温度精度可达0.01℃，控温范围可达-30℃至90℃。

精密温度控制解决方案

SMEE提供各种类型的超高精度温度控制全面解决方案，可按客户具体需求提供从设计、制造、安装、调试到维护的一条龙服务，可应用于光学镜头、光栅、精密元件、精密仪器和精密机床制造等领域，尤其适合于材料提纯、测试、测量和定位定准等各种科学实验场合。

一、概述 HYT-6000系列智能温度调节器一种高性能、高可靠性的智能型工业调节仪表，广泛应用于机械、化工、陶瓷、轻工、冶金、石化、热处理等行业的自动温度控制。 主要特点 ★热电偶量程自由设置； ★软件调零调满度，冷端单独测温，放大器自稳零，显示精度可优于0.2%FS ★模糊理论结合传统PID方法，控制快速平稳； ★输出可选：继电器触点、SSR驱动电平、移相触发脉冲、过零触发脉冲和模拟量，另附二路可定义的报警触点输出； 二、技术规格 ●输入规格：热电偶：K、J、E、S、N、T、B、R ●测量精度：1.0级（±1.0%F±1）、0.5级（±0.5%F±1）、0.2级（±0.2%F±1字） ●采样速率: 2次/秒注:仪表对B分度号热电偶在0-400℃范围内可进行测量,但无法保证测量精度。 ●调节方式： 智能PID调节，依据不同的P、I、D参数可组成P（P=0即为位式）、PI、PID调节； 主控可为继电器触点开关输出、触发固态继电器的逻辑电平、移相触发脉冲、过零触发脉冲及4-20mA模拟量输出(也可为0-10mA或其它模拟量输出)，也可据客户要求定制； ●报警功能:上限、下限、上偏差、下偏差； ●电源:220VAC,-15%,+10%/50-60HZ； ●电源消耗:≤5W ●环境温度:0-50℃

您好

在国内做温控器开关做得比较好的有如下:

深圳源芯半导体

0755*8325*1336

型号常开

型号常闭

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型号常开

型号常闭

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