7nm芯片迎来突破！国产半导体逆势崛起，打破日美垄断

一直以来，半导体行业都是国内产业生产的薄弱之处，很多技术都依赖于外企。

像EUV光刻机、芯片核心制造技术以及高端光刻胶等方面，但同样我们在芯片设计、封测技术等方面也占据了世界前列的位置。

如今，随着局势的变化，华为因芯片断供产生的后续影响已经初步显现，它让国产其他相关企业认识到只有自己掌握了核心技术才能避免在这些方面受到技术上的"卡脖子"。

11月13日，根据新浪 财经 最新报道，国内光刻胶领域迎来好消息，对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。消息显示，国内宁波南大光电材料有限公司已正式宣布，首条ArF光刻胶生产线已经正式投入生产，预计项目完成后年销售额达10亿元。

目前该公司已经将生产出来的ArF光刻胶样品送至客户手中进行测试，如果测试成功，那么该公司将迎来更多ArF光刻胶方面的订单。

或许有小伙伴不太了解ArF光刻胶。

光刻胶在芯片生产中起到很关键的作用，可以说它是集成电路产生制造中的核心材料，对于芯片最终呈现的质量和性能方面都有很大的影响，因而光刻胶的成功对于生产制造芯片也有很大的帮助。

目前来说，虽然国内不乏有主营光刻胶的企业，但在ArF光刻胶这样的高端种类却几乎100%依赖于外企，而ArF光刻胶在对于28nm-7nm工艺芯片的生产起到至关重要的作用，因而可以说这一次在ArF光刻胶上的突破也预示着在7nm芯片制造上迎来突破！

根据资料显示，目前高端光刻胶主要集中于美企和日企手中，所占份额达全球光刻机份额的95%，而这一次宁波南大光电材料有限公司在ArF高端光刻胶中的突破也预示着国产半导体的逆势崛起，将打破美日企业在高端光刻胶领域上的垄断。

不过，想要避免外资企业在技术上的垄断，光靠一家公司明显后劲不足，但就如今的发展趋势来说，目前国产半导体相关企业已经纷纷在各自的领域中寻找突破之路。

上海微电子、上海华虹半导体、晶瑞股份等公司在芯片生产工艺上以及光刻机上等方面寻求突破口，照这样的趋势发展，未来国产半导体行业将迎来新生！

近日，南大光电发布公告称，其承担的国家02专项ArF光刻胶项目取得重大进展，并且通过了专家组验收。目前已建成年产25吨的ArF光刻胶产业基地，可用于90nm-14nm，甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。

众所周知，光刻胶是芯片制造不可或缺的重要原料，是光刻机进行硅膜片曝光、设计图案印章的核心材料。ArF 光刻胶材料主要应用于高端芯片制造，目前我国在ArF、KrF光刻胶领域中的市场占比较少，全球大多数的光刻胶市场都被美国、日本垄断。

对于国产半导体行业来说，南大光电7纳米光刻胶的交付，具有十分重要的意义，一方面能够缓解我们在半导体领域中，特别是芯片代工领域中，被芯片原料卡脖子的难题；另一方面有助于加快我们在芯片代工领域中实现自给化目标的脚步。

需要注意的是，有关 7 纳米 ArF 光刻胶的应用，南大光电目前只是小规模投产，与之相关的生产线正在构建当中。在公告中，南大光电也表示，ArF 光刻胶的复杂性决定了其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险，不仅需要技术攻关，还需要在应用中进行工艺的改进、完善。

但不管怎么说，这次南大光电完成7纳米光刻胶的验证，对于自身，对于国产半导体行业来说是一件好事情。至少可以保证我们不会在光刻胶领域中被国外彻底卡住，相信只要坚持下去，假以时日，一切难题都会迎刃而解。

老美给华为等中企带来的芯片“卡脖子”之痛，让国内市场彻底认识到了掌握核心半导体技术的重要性，尤其是芯片制造这项短板，是最急需强化的领域。

而最拖国产芯片制造产业后腿的，无疑就是光刻设备了。因为全球能生产中高端光刻机的只有荷兰ASML，但它却因为《瓦森纳协定》而被老美限制对华自由出货。

不过，令人振奋的是，在中科院与国产设备企业的共同努力下，国产光刻机取得了实质性的进展，不仅突破了EUV三大核心技术，而且上海微电子的国产中端光刻设备也将在年底正式落地。这意味着，我们将很快实现7nm及以上所有工艺制程芯片的国产化。

但没想到的是，在我们即将赢下与美的 科技 博弈之时，日本却落井下石，日本信越化学公司做出决定，将断供中企的高端光刻胶材料。

虽然光刻胶在芯片产线上的技术占比不足1%，但却被称为造芯的“燃料”，与光刻机一样，都有着无可替代的作用。日本是全球最大的高端光刻胶生产地，市场占有率超过了90%。

很显然，光刻胶的突然断供，对正处爬坡阶段的“中国芯”造成了不小的影响，如果快速解决，必然会打乱国产芯片产业的发展规划。

令人振奋的是，在这关键时刻，国内材料巨头传出了好消息。

据媒体报道，在8月25日，晶瑞电材在投资者互动平台表示：公司的光刻胶产品已经完成升级，达到了国际中高级水准！

作为承接专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目的重点公司，晶瑞在光刻胶领域已摸爬滚打三十年，虽然日本一直封锁尖端光刻胶技术，但晶瑞凭借着不懈的研发努力，依然实现了稳步前行。

如今，在“中国芯”最需要助力的时刻，晶瑞不负众望地完成了任务。

晶瑞方面透露，自主研发的g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等半导体厂商供货，为芯片的国产化提供了巨大的助力。而且，自研的Krf（248nm深紫外）光刻胶完成了中级测试，现已进入了最后的客户测试阶段，量产在即。

除了晶瑞之外，南大光电自研的高端Arf光刻胶项目在前段时间也已正式落地，而且还打通了国内光刻胶市场。

综合来看，国产光刻胶市场生态虽然不如日本企业那么成熟，但却做到了全系突破，完全不用再依赖于进口，而且在国内芯片市场的内需刺激下，有机会在短时间内冲击日本光刻胶“霸主”的地位。

日本断供光刻胶或许是受到了某国的“指点”，妄图以此来遏制我国芯片产业的崛起。

但如今的结果显然是得不偿失，不仅加速了我国在光刻胶领域的研发进展，让我们一举摆脱了依赖；更重要的是，随着中国光刻胶材料技术的继续强化，物美价廉的中国产品，必然让日本光刻胶失去市场的唯一性，变得无人问津。

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