中国半导体何时能突破重围

中国半导体何时能突破重围,第1张

未来可期。国内半导体企业的整体实力还是不错的,目前对于芯片制造过程中最主要的设备光刻机,上海微电子已经取得了突破,首台国产的28nm沉浸式光刻机机也即将迎来组装下线,中微半导体在刻蚀机领域也取得了重大成就,外加上此次中电科突破的离子注入机技术,国产自主产业链也得到了进一步的完善。

我个人认为中国的芯片工业水平是不可能在十年内达到世界前列的,至少要三十年!而且还是在没有科技封锁的前提下。

有一说一,我们国家的芯片工业水平想在十年之内就达到世界前列水平,说真的,基本上不可能的。因为芯片行业可不是那么容易的,特别是高端芯片,在高端芯片行业,难度比造原子d还难得多。因为高端芯片行业需要有高精尖的科技水平,毕竟那些高端芯片都是在5nm,甚至是3nm层面的 *** 作。以我国现在的半导体行业技术,压根不可能的,虽然我们有中芯国际这些,但是这些企业也无法做到这个级别的芯片加工,这也就是为什么像华为这种自研芯片的企业,都要去找台积电生产,因为大陆没有一家企业可以生产的,像3nm加工技术,全世界也就一两家企业有这个技术。

其实我国的芯片工业水平不能在十年内达到世界前列,原因很简单,那就是因为有科技封锁。这是最致命的,如果不是高精尖的芯片加工,比如7nm及以下这些,那还好,中芯国际还可以想着办法绕过去,但不好意思,在这个之下的,你是绝对绕不开的,所以说这就是为什么我说十年内不可能达到世界前列的原因。因为人家给你封锁的死死的,就像荷兰的ASML,芯片加工设备制造商,买了这个企业的设备,你就可以自己造5nm、3nm的芯片,但买不来,因为科技封锁,你想买,加钱买都买不到,就是不给你买,你怎么突破?造芯片可比早原子d难多了。

总的来说,中国的芯片工业水平不可能在10年内达到世界前列,因为科技封锁太严格了,压根没有一个突破口,自己慢慢摸索是很慢的。


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址:https://54852.com/dianzi/7635126.html

(0)
打赏 微信扫一扫微信扫一扫 支付宝扫一扫支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-08
下一篇2023-04-08

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

    保存