半导体中怎么depfilm

使用溅射技术可以在半导体表面形成depfilm，溅射技术可以将原料形成液体或气体，然后用高能离子束将其射向半导体表面，形成一层薄膜。另外，还可以使用CVD或PECVD技术，将原料化学气相沉积在半导体表面，从而形成depfilm。

dep是数据执行保护。

数据执行保护 (DEP) 有助于防止电脑遭受病毒和其他安全威胁的侵害。

应用会留出一部分电脑内存用于暂存数据，同时留出另一部分内存用于暂存应用使用的指令。 黑客可能试图诱使应用运行（也称为执行）放置在电脑内存中伪装成指令的有害数据。 这可能会让黑客得以控制你的电脑。

相关信息：

与防病毒程序不同，硬件和软件实施 DEp 技术的目的并不是防止在计算机上安装有害程序。 而是监视您的已安装程序，帮助确定它们是否正在安全地使用系统内存。

为监视您的程序，硬件实施 DEp 将跟踪已指定为“不可执行”的内存区域。 如果已将内存指定为“不可执行”，但是某个程序试图通过内存执行代码，Windows 将关闭该程序以防止恶意代码。 无论代码是不是恶意，都会执行此 *** 作。

Epi_wafer: 在single crystal wafer上再dep一层single crystal Si ,Improve the performance of bipolar transistor, with high breakdown voltage of the collector-substrate junction and low collector resistance. Lightly doped epiwafer minimizes latch-up effect, accurately controlled doing concentration.是在原本Heavily doped substrate上，以的方式成长一层Lightly doped Epi-layer，以作为CMOS制程的底材。因此CMOS是直接建立在Lightly doped Epi-layer上，而Heavily doped substrate则作为接地。此可使CMOS中直立式pnp双载子寄生电晶体的电流不易横向地流往寄生的npn电晶体，而流向Heavily doped substrate。因为底材接地，寄生pnp与npn的闭锁(Latch up)现象可被抑制，但相对使用Epi-Wafer会提高成本。

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