
Q-time是一步一步到下一步跟踪的等待时间,它有最大时间或最小时间。
工艺上指的就是不同工艺步骤之间所需的时间。
英语中Q-TIME is the waiting time between one step track out to next step track in, which have max time or min time
扩展资料:
一种是将它分为日用工艺和陈设工艺两大类:
前者指经过装饰加工的生活日用品,如花布、茶具、餐具、灯具、绣花织品、编织物、家具等;
后者则专指供观赏用的陈列品,如象牙雕刻、绢花、麦秆贴、金银首饰、装饰壁等。
另一种是从制作特点和艺术形态的角度,将工艺分为传统工艺、现代工艺、装潢美术、民间工艺四大类。
工艺的制作,常因历史时期、地理环境、经济条件、文化技术水平、民族习尚和审美观念的不同而显示出不同的时代风格、民族风格和地域特色的。
制定工艺的原则是:技术上的先进和经济上的合理。
由于不同的工厂的设备生产能力、精度以及工人熟练程度等因素都大不相同,所以对于同一种产品而言,不同的工厂制定的工艺可能是不同的;
甚至同一个工厂在不同的时期做的工艺也可能不同。
可见,就某一产品而言,工艺并不是唯一的,而且没有好坏之分。这种不确定性和不唯一性,和现代工业的其他元素有较大的不同。
参考资料来源:工艺
半导体中有两种载流子:自由电子和空穴。在热力学温度零度和没有外界能量激发时,价电子受共价键的束缚,晶体中不存在自由运动的电子,半导体是不能导电的。但是,当半导体的温度升高(例如室温300oK)或受到光照等外界因素的影响,某些共价键中的价电子获得了足够的能量,足以挣脱共价键的束缚,跃迁到导带,成为自由电子,同时在共价键中留下相同数量的空穴。空穴是半导体中特有的一种粒子。它带正电,与电子的电荷量相同。把热激发产生的这种跃迁过程称为本征激发。显然,本征激发所产生的自由电子和空穴数目是相同的。 由于空穴的存在,临近共价键中的价电子很容易跳过去填补这个空穴,从而使空穴转移到临近的共价键中去,而后,新的空穴又被其相邻的价电子填补,这一过程持续下去,就相当于空穴在运动。带负电荷的价电子依次填补空穴的运动与带正电荷的粒子作反方向运动的效果相同,因此我们把空穴视为带正电荷的粒子。可见,半导体中存在两种载流子,即带电荷+q的空穴和带电荷–q的自由电子。 在没有外加电场作用时,载流子的运动是无规则的,没有定向运动,所以形不成电流。在外加电场作用下,自由电子将产生逆电场方向的运动,形成电子电流,同时价电子也将逆电场方向依次填补空穴,其导电作用就像空穴沿电场运动一样,形成空穴电流。虽然在同样的电场作用下,电子和空穴的运动方向相反,但由于电子和空穴所带电荷相反,因而形成的电流是相加的,即顺着电场方向形成电子和空穴两种漂移电流。 在本征半导体硅(或锗)中掺入少量的五价元素,如磷、砷或锑等,就可以构成N型半导体。若在锗晶体中掺入少量的砷原子如图1所示,掺入的砷原子取代了某些锗原子的位置。砷原子有五个价电子,其中有四个与相邻的锗原子结合成共价键,余下的一个不在共价键内,砷原子对它的束缚力较弱,因此只需得到极小的外界能量,这个电子就可以挣脱砷原子的束缚而成为自由电子。这种使杂质的价电子游离成为自由电子的能量称为电离能。这种电离能远小于禁带宽度EGO,所以在室温下,几乎所有的杂质都已电离而释放出自由电子。杂质电离产生的自由电子不是共价键中的价电子,因此,与本征激发不同,它不会产生空穴。失去一个价电子的杂质原子成为一个正离子,这个正离子固定在晶格结构中,不能移动,所以它不参与导电。 由于砷原子很容易贡献出一个自由电子故称为“施主杂质”。失去一个价电子而电离的杂质原子,称为“施主离子”。施主杂质的浓度用ND表示。 砷原子对第5个价电子的束缚力较弱,反应在能带图上,就是该电子的能级非常接近导带底,称施主能级ED,其能带图如图2所示。在砷原子数量很少时,各施主能级间几乎没有什么影响,施主能级处于同一能量水平。 施主能级ED和导带底能级EC之差称为施主电离能级EiD。对锗中掺有砷的杂质半导体,约为0.0127eV,比锗的禁带宽度0.72eV小的多。在常温下,几乎所有砷施主能级上的电子都跳到了导带,成为自由电子,留下的则是不能移动的砷施主离子。因此,N型半导体的自由电子由两部分构成,一部分由本征激发产生,另一部分由施主杂质电离产生,只要在锗中掺入少量的施主杂质,就可以使后者远远超过前者。例如每104个锗原子中掺入一个砷原子,锗的原子密度是4.4´1022/cm3,在单位体积中就掺入了4.4´1018个砷原子,即施主杂质浓度ND=4.4´1018/cm3。在室温下,施主杂质电离产生的自由电子浓度n=ND=4.4´1018/cm3。而锗本征激发产生的自由电子浓度ni=2.5´1013/cm3,可见由杂质提供的自由电子浓度比本征激发产生的自由电子浓度大10万倍。由于自由电子的大量增加,使得电子与空穴复合机率增加,因而空穴浓度急剧减小,在热平衡状态下,空穴浓度Pn比本征激发产生的空穴浓度pi要小的多。因此,N型半导体中,自由电子浓度远大于空穴浓度,即nn>>pn。因为自由电子占多数,故称它为多数载流子,简称“多子”;而空穴占少数,故称它为少数载流子,简称“少子”。 在本征半导体硅(或锗)中掺入少量的三价元素,如硼、铝或铟等,就可以构成P型半导体。若在锗晶体中掺入少量的硼原子如图3所示,掺入的硼原子取代了某些锗原子的位置。硼原子有三个价电子,当它与相邻的锗原子组成共价键时,缺少一个电子,产生一个空位,相邻共价键内的电子,只需得到极小的外界能量,就可以挣脱共价键的束缚而填补到这个空位上去,从而产生一个可导电的空穴。由于三价杂质的原子很容易接受价电子,所以称它为“受主杂质”。 硼的受主能级EA非常接近价带顶EV,即受主电离能级EiA=EA-EV之值很小,受主能级几乎全部被原价带中的电子占据,受主杂质硼全部电离。受主杂质接受了一个电子后,成为一个带负电荷的负离子。这个负离子固定在锗晶格结构中不能移动,所以不参与导电。在常温下,空穴数大大超过自由电子数,所以这类半导体主要由空穴导电,故称为P型或空穴型半导体。P型半导体中,空穴为多数载流子,自由电子为少数载流子。 杂质半导体中,施主杂质和受主杂质要么处于未离化的中性态,要么电离成为离化态。以施主杂质为例,电子占据施主能级时是中性态,离化后成为正电中心。因为费米分布函数中一个能级可以容纳自旋方向相反的两个电子,而施主杂质能级上要么被一个任意自旋方向的电子占据(中性态),要么没有被电子占据(离化态),这种情况下电子占据施主能级的几率为 如果ED-EF>>k0T,则未电离施主浓度nD≈0,而电离施主浓度nD+≈ND,杂质几乎全部电离。 如果费米能级EF与施主能级ED重合时,施主杂质有1/3电离,还有2/3没有电离。 杂质半导体载流子浓度(n型) n型半导体中存在着带负电的导带电子(浓度为n0)、带正电的价带空穴(浓度为p0)和离化的施主杂质(浓度为nD+),因此电中性条件为 一般求解此式是有困难的。 实验表明,当满足Si中掺杂浓度不太高并且所处的温度高于100K左右的条件时,那么杂质一般是全部离化的,这样电中性条件可以写成 一般Si平面三极管中掺杂浓度不低于5×1014cm-3,而室温下Si的本征载流子浓度ni为1.5×1010cm-3,也就是说在一个相当宽的温度范围内,本征激发产生的ni与全部电离的施主浓度ND相比是可以忽略的。这一温度范围约为100~450K,称为强电离区或饱和区,对应的电子浓度为 一般n型半导体的EF位于Ei之上Ec之下的禁带中。 EF既与温度有关,也与杂质浓度ND有关: 一定温度下掺杂浓度越高,费米能级EF距导带底Ec越近;如果掺杂一定,温度越高EF距Ec越远,也就是越趋向Ei。图5是不同杂质浓度条件下Si中的EF与温度关系曲线。 n型半导体中电离施主浓度和总施主杂质浓度两者之比为 越小,杂质电离越多。所以掺杂浓度ND低、温度高、杂质电离能ΔED低,杂质离化程度就高,也容易达到强电离,通常以I+=nD+/ND=90%作为强电离标准。经常所说的室温下杂质全部电离其实忽略了掺杂浓度的限制。 杂质强电离后,如果温度继续升高,本征激发也进一步增强,当ni可以与ND比拟时,本征载流子浓度就不能忽略了,这样的温度区间称为过渡区。 处在过渡区的半导体如果温度再升高,本征激发产生的ni就会远大于杂质电离所提供的载流子浓度,此时,n0>>ND,p0>>ND,电中性条件是n0=p0,称杂质半导体进入了高温本征激发区。在高温本征激发区,因为n0=p0,此时的EF接近Ei。 可见n型半导体的n0和EF是由温度和掺杂情况决定的。 杂质浓度一定时,如果杂质强电离后继续升高温度,施主杂质对载流子的贡献就基本不变了,但本征激发产生的ni随温度的升高逐渐变得不可忽视,甚至起主导作用,而EF则随温度升高逐渐趋近Ei。 半导体器件和集成电路就正常工作在杂质全部离化而本征激发产生的ni远小于离化杂质浓度的强电离温度区间。 在一定温度条件下,EF位置由杂质浓度ND决定,随着ND的增加,EF由本征时的Ei逐渐向导带底Ec移动。 n型半导体的EF位于Ei之上,EF位置不仅反映了半导体的导电类型,也反映了半导体的掺杂水平。 图6是施主浓度为5×1014cm-3的n型Si中随温度的关系曲线。低温段(100K以下)由于杂质不完全电离,n0随着温度的上升而增加;然后就达到了强电离区间,该区间n0=ND基本维持不变;温度再升高,进入过渡区,ni不可忽视;如果温度过高,本征载流子浓度开始占据主导地位,杂质半导体呈现出本征半导体的特性。 如果用nn0表示n型半导体中的多数载流子电子浓度,而pn0表示n型半导体中少数载流子空穴浓度,那么n型半导体中 也就是说在器件正常工作的较宽温度范围内,随温度变化少子浓度发生显著变化,因此依靠少子工作的半导体器件的温度性能就会受到影响。对p型半导体的讨论与上述类似。1、COB(Chip On Board)
通过帮定将IC裸片固定于印刷线路板上
2、COF (Chip On FPC)
将芯片固定于TCP上
3、COG (Chip On Glass)
将芯片固定于玻璃上
4、El (Electro Luminescence)
电致发光,EL层由高分子量薄片构成,用作LCD的EL光源
5、FTN (Formutated STN)
一层光程补偿片加于STN,用于黑白显示
6、LED (Light Emitting Diode)
发光二极管
7、PCB (Print Circuit Board)
印刷线路板
8、QFP (Quad Flat Package)
四方扁平封装
9、QTP (Quad Tape Carrier Package)
四向型TCP
10、SMT (Surface Mount Technology)
表面贴装技术
11、TCP (Tape Carrier Package)
柔性线路板,IC可固定于其上
12、STN (Super Twisted Nematic)
带有约180度到270度扭曲向列的显示类型
13、tf (Fall Time)
响应速度:下降沿时间
14、TN (Twisted Nematic)
带有约90度扭曲向列的显示类型
15、TNR (Tn With Retardation Film)
一种彩色显示,它不采用彩色滤光片,而是在普通TN玻璃上 附加上光程补偿片
16、tr (Rise Time)
响应速度:上升沿时间
17、Vop (Operating Voltage)
LCD驱动电压
18、Vth (Threshold Voltage)
阀值电压 电阻在电路中用“R”加数字表示,如:R1表示编号为1的电阻。电阻在电路中的主要作用为分流、限流、分压、偏置等。
1、参数识别:电阻的单位为欧姆(Ω),倍率单位有:千欧
(KΩ),兆欧(MΩ)等。换算
方法是:1兆欧=1000千欧=1000000欧
电阻的参数标注方法有3种,即直标法、色标法和数标法。
a、数标法主要用于贴片等小体积的电路,如:472表示47×100Ω(即4.7K);104则表示100K
b、色环标注法使用最多,现举例如下:四色环电阻五色环电阻(精密电阻)
2、电阻的色标位置和倍率关系如下表所示:
颜色有效数字倍率允许偏差(%)
从电阻的较细一段算起
银色/x0.01±10
金色/x0.1±5
黑色0+0/
棕色1x10±1
红色2x100±2
橙色3x1000/
黄色4x10000/
绿色5x100000±0.5
蓝色6x1000000±0.2
紫色7x10000000±0.1
灰色8x100000000/
白色9x100000000/ 1、电容在电路中一般用“C”加数字表示(如C13表示编号为13的电容)。电容是由两片金属膜紧靠,中间用绝缘材料隔开而组成的元件。电容的特性主要是隔直流通交流。电容容量的大小就是表示能贮存电能的大小,电容对交流信号的阻碍作用称为容抗,它与交流信号的频率和电容量有关。
容抗XC=1/2πfc(f表示交流信号的频率,C表示电容容量)
电话机中常用电容的种类有电解电容、瓷片电容、贴片电容、独石电容、钽电容和涤纶电容等。2、识别方法:电容的识别方法与电阻的识别方法基本相同,分直标法、色标法和数标法3种。电容的基本单位用法拉(F)表示,其它单位还有:毫法(mF)、微法(uF)、纳法(nF)、皮法(pF)。
其中:1法拉=10^3毫法=10^6微法=10^9纳法=10^12皮法
容量大的电容其容量值在电容上直接标明,如10uF/16V
容量小的电容其容量值在电容上用字母表示或数字表示
字母表示法:1m=1000uF 1P2=1.2PF 1n=1000PF
数字表示法:一般用三位数字表示容量大小,前两位表示有效数字,第三位数字是倍率。
如:102表示10×10^2PF=1000PF 224表示22×10^4PF=0.2 2uF3、电容容量误差表
符号FGJKLM
允许误差±1%±2%±5%±10%±15%±20%
如:一瓷片电容为104J表示容量为0.1uF、误差为±5%。 晶体二极管在电路中常用“D”加数字表示,如:D5表示编号为5的二极管。
1、作用:二极管的主要特性是单向导电性,也就是在正向电压的作用下,导通电阻很小;而在反向电压作用下导通电阻极大或无穷大。正因为二极管具有上述特性,无绳电话机中常,把它用在整流、隔离、稳压、极性保护、编码控制、调频调制和静噪等电路中。电话机里使用的晶体二极管按作用可分为:整流二极管(如1N4004)、隔离二极管(如1N4148)、肖特基二极管(如BAT85)、发光二极管、稳压二极管等。
2、识别方法:二极管的识别很简单,小功率二极管的N极(负极),在二极管外表大多采用一种色圈标出来,有些二极管也用二极管专用符号来表示P极(正极)或N极(负极),也有采用符号标志为“P”、“N”来确定二极管极性的。发光二极管的正负极可从引脚长短来识别,长脚为正,短脚为负。
3、测试注意事项:用数字式万用表去测二极管时,红表笔接二极管的正极,黑表笔接二极管的负极,此时测得的阻值才是二极管的正向导通阻值,这与指针式万用表的表笔接法刚好相反。
4、常用的1N4000系列二极管耐压比较如下:
型号1N4001 1N4002 1N4003 1N4004 1N4005 1N4006 1N4007
电流(A)均为1 稳压二极管在电路中常用“ZD”加数字表示,如:ZD5表示编号为5的稳压管。
1、稳压二极管的稳压原理:稳压二极管的特点就是击穿后,其两端的电压基本保持不变。这样,当把稳压管接入电路以后,若由于电源电压发生波动,或其它原因造成电路中各点电压变动时,负载两端的电压将基本保持不变。
2、故障特点:稳压二极管的故障主要表现在开路、短路和稳压值不稳定。在这3种故障中,前一种故障表现出电源电压升高;后2种故障表现为电源电压变低到零伏或输出不稳定。
常用稳压二极管的型号及稳压值如下:
型号1N4728 1N4729 1N4730 1N4732 1N4733 1N4734 1N4735 1N4744 1N4750 1N4751 1N4761 变容二极管是根据普通二极管内部“PN结”的结电容能随外加反向电压的变化而变化这一原理专门设计出来的一种特殊二极管。变容二极管在无绳电话机中主要用在手机或座机的高频调制电路上,实现低频信号调制到高
频信号上,并发射出去。在工作状态,变容二极管调制电压一般加到负极上,使变容二极管,的内部结电容容量随调制电压的变化而变化。变容二极管发生故障,主要表现为漏电或性能变差:
(1)发生漏电现象时,高频调制电路将不工作或调制性能变差。
(2)变容性能变差时,高频调制电路的工作不稳定,使调制后的高频信号发送到对方被对方接收后产生失真。出现上述情况之一时,就应该更换同型号的变容二极管。 在电路中常用“Q”加数字表示,如:Q17表示编号为17的三极管。
1、特点:晶体三极管(简称三极管)是内部含有2个PN结,并且具有放大能力的特殊器件。它分NPN型和PNP型两种类型,这两种类型的三极管从工作特性上可互相弥补,所谓OTL电路中的对管就是由PNP型和NPN型配对使用。电话机中常用的PNP型三极管有:A92、9015等型号;NPN型三极管有:A42、9014、9018、9013、9012等型号。
2、晶体三极管主要用于放大电路中起放大作用,在常见电路中有三种接法。为了便于比较,将晶体管三种接法电路所具有的特点列于下,名称共发射极电路共集电极电路(射极输出器)共基极电路
输入阻抗中(几百欧~几千欧)大(几十千欧以上)小(几欧~几十欧)
输出阻抗中(几千欧~几十千欧)小(几欧~几十欧)大(几十千欧~几百千欧)
电压放大倍数大小(小于1并接近于1)大
电流放大倍数大(几十)大(几十)小(小于1并接近于1)
功率放大倍数大(约30~40分贝)小(约10分贝)中(约15~20分贝)
频率特性高频差好好 1、场效应晶体管具有较高输入阻抗和低噪声等优点,因而也被广泛应用于各种电子设备中。尤其用场效管做整个电子设备的输入级,可以获得一般晶体管很难达到的性能。
2、场效应管分成结型和绝缘栅型两大类,其控制原理都是一样的。两种型号的表示符号:
3、场效应管与晶体管的比较(1)场效应管是电压控制元件,而晶体管是电流控制元件。在只允许从信号源取较少电流的情况下,应选用场效应管;而在信号电压较低,又允许从信号源取较多电流的条件下,应选用晶体管。(2)场效应管是利用多数载流子导电,所以称之为单极型器件,而晶体管是即有多数载流子,也利用少数载流子导电。被称之为双极型器件。(3)有些场效应管的源极和漏极可以互换使用,栅压也可正可负,灵活性比晶体管好。(4)场效应管能在很小电流和很低电压的条件下工作,而且它的制造工艺可以很方便地把很多场效应管集成在一块硅片上,因此场效应管在大规模集成电路中得到了广泛的应用。
1)电子元件:指在工厂生产加工时不改变分子成分的成品。如电阻器、电容器、电感器。因为它本身不产生电子,它对电压、电流无控制和变换作用,所以又称无源器件。按分类标准,电子元件可分为11个大类。
2)电子器件:指在工厂生产加工时改变了分子结构的成品。例如晶体管、电子管、集成电路。因为它本身能产生电子,对电压、电流有控制、变换作用(放大、开关、整流、检波、振荡和调制等),所以又称有源器件。按分类标准,电子器件可分为12个大类,可归纳为真空电子器件和半导体器件两大块。
稳压值3.3V3.6V3.9V4.7V5.1V5.6V6.2V15V27V30V75V。
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