
2.根据掺杂浓度查表得到半导体的功函数Ws=5.00eV
3.为了得到肖特基结,要求P型半导体满足Wm<Ws,所以应选择Al,作为金属构成肖特基结。
4.金属一侧的势垒高度q$ps=X+Eg-Wm=4.05+1.124-4.20=0.974eV
5.半导体一侧的势垒高度qVD=|Wm-Ws|=|4.20-5.00|=0.80eV
我就不带入数据了。算出电阻率E/j
电导率=1/电阻率=nqμ
然后就可以求出电子浓度n
可是题目中说的是一块n型半导体,那么不管你如何加外电场,内部的载流子分布是恒定的,不会随着位置而变化,因为要符合连续性方程。只有掺杂才会引起浓度变化。所以2、3问的就有些奇怪了
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
微信扫一扫
支付宝扫一扫
评论列表(0条)