国产光刻机新突破！美国发放2614亿补贴，理性分析：赶超才刚开始

值得说明的是，这已经是继六月份CHIPS法案（为五角大楼和其它政府运行机构的芯片制造项目提供最少120亿美元的资金）以来第二项针对半导体行业的资助，如果通过，将会像为美国芯片制造行业带来370亿美金（合计2614亿人民币）的补贴。

国产28纳米光刻机将量产，美国慌了

众所周知，美国在高 科技 行业有着几乎垄断的地位，此次针对芯片制造行业的巨额补贴一方面展现了美国政府对于高 科技 行业的重视，但更重要的一点是面对我国在芯片领域的不断进步有点慌张了，据悉，上海微电子于六月透露，将在明年或后年交付首台国产的28纳米工艺浸没式光刻机，此前国内的光刻机制造工艺还停留在90纳米。

光刻机的制造并非是一夕而成的，和国外相比，国内的光刻机技术起步较晚，又受到了西方国家相关技术的封锁，在研发的道路上只能摸着石头过河，甚至是芯片制造行业的权威人士，台积电创始人张忠谋也曾表示不看好大陆的芯片制造行业，此次上海微电子在光刻机制造上的重大突破，无疑是国内 科技 产业对于西方技术封锁的一次有力回击。

尖端技术的突破，离不开国家的帮助

作为目前最为精密的设备，光刻机的制造无疑是非常困难的，即便是在该领域内技术最为先进ASML公司，在制作光刻机的时候也需要德国的机械工艺、日本的复合材料、瑞典的工业机床技术以及美国提供的光源，在西方技术的封锁之下，国产光刻机更是寸步难行，面对如此困境，我国在2014年就以成立了国家集成电路产业投资基金，投资了多家半导体公司，在2018以及2019两年，我国对芯片业的投资金额也高达220亿元。

在国家的大力支持下，我国在芯片制造行业也有着许多新的进展，中微半导体的5纳米蚀刻机已经通过了台积电的验证，并将正式运用于今年5纳米芯片的发展，处于世界领先地位；还有制造芯片中的关键设备离子注入机也达到了国际先进水平，除此之外，还有南大光电的光刻胶打破了日本企业的垄断地位，都展现出了国产半导体技术蒸蒸日上的势头。

差距不容忽视，光刻机技术仍然落后

虽然上海微电子在国产光刻机制造商得到了突破，但是回归理性，我们还是不得不承认，28纳米的光刻机和荷兰ASML公司的5纳米光刻机仍然存在着巨大的差距，而且这种差距并非是一朝一夕就能够赶上的，以美国为首的西方国家对于我国的技术进步也必将采用更加严苛的技术封锁手段。

不只是光刻机，国内还有许多技术在不断的追赶着西方国家的脚步，我相信只要有足够的时间，技术的反超并非是完全没有可能的，那么你怎么看待国产光刻机的突破呢？一起来聊一下吧！

好。

根据查询相关公开信息显示，中微公司员工享有节假日双休、五险一金、医疗保险、带薪年假、定期体检、绩效奖金、年终奖金等。

中微半导体设备股份有限公司，法定代表人，尹志尧，注册资金，61，624.4万元，地址，上海市浦东新区金桥出口加工区泰华路188号，经营范围，研发、组装集成电路设备、泛半导体设备和其他微观加工设备及环保设备。

不累。中微半导体普工是加工半导体产品，产品比较精细，加工车间自动化程度比较高，生产技术人员只是把有关技术参数设置好，输入到系统中，就可以生产了，普通员工只是巡查生产设备和记录生产数据，工作比较轻松，工作环境又比较干净，所以说中微半导体普工上班不是很累。中微半导体股份有限公司成立于2001年，是集成电路设计企业，专注于数模混合信号芯片、模拟芯片的研发、设计与销售。

---