半导体二极管的基本生产工艺流程

半导体二极管的基本生产工艺流程,第1张

芯片测试--与引线框架组装--烧结---酸洗---上胶--烘烤---塑封---后固化---电镀---印字测试--外检--包装--QA检验--入库--发货。

半导体二极管又称晶体二极管,简称二极管(diode)。它是一种能够单向传导电流的电子器件。在半导体二极管内部有一个PN结两个引线端子,这种电子器件按照外加电压的方向,具备单向电流的传导性。

烧写器也叫烧录器、编程器。在台湾,烧写器也叫烧录器;在大陆,客户之所以叫它为“编程器”,是因为现在英文名为PROGRAMMER,这个英文名与一般编写软件程式的设计师同名,所以就叫“编程器”。

烧写器实际上是一个把可编程的集成电路写上数据的工具。烧录器主要用于单片机(含嵌入式)/存储器(含BIOS)之类的芯片的编程(或称刷写)。

烧写器在功能上可分万用型烧写器、量产型烧写器、专用型烧写器。专用型烧写器价格最低,适用芯片种类较少,适合以某一种或者某一类专用芯片编程的需要,例如仅仅需要对PIC系列编程。全功能通用型一般能够涵盖几乎(不是全部)所有当前需要编程的芯片,由于设计麻烦,成本较高,限制了销量,最终售价极高,适合需要对很多种芯片进行编程的情况。

烧写器的英文名为PROGRAMMER,有人叫WRITER,更早期有人叫BURNER,这种机器是用来烧写〔PROGRAM〕一种称为可烧写的IC〔PROGRAMABLE IC〕,可烧写这些IC内部的CELL〔细胞〕资料,造成不同的功能,以前的IC大部份都是固定功能的IC〔DEDICATED ID〕,所以设计者若设计一片电路板必须用上多种不同的固定功能的IC,对大量生产者需准备很多类型的IC,自从可烧录的IC出现后,设计者只要准备一种IC便可把它烧录成不同功能的IC,备料者只采购一种IC即可,备料方便,但须准备烧写器去烧录它。

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蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。蚀刻原理通常所指蚀刻也称光化学蚀刻(photochemical etching),指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。曝光法:工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK网印法:开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK减少侧蚀和突沿,提高蚀刻系数,侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长,(或者使用老式的左右摇摆蚀刻机)侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度,严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。

当侧蚀和突沿降低时,蚀刻系数就升高,高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力,使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻抗蚀剂无论是锡-铅合金,锡,锡-镍合金或镍,突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来,在导线的两点之间形成电的桥接。

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