半导体曝光部门？

半导体曝光是台湾的术语，相当于大陆所讲的半导体光刻

曝光（光刻）就是使用微影设备（大陆称光刻机）照射涂布有显影液和光阻的晶圆表面，把光罩上的图案转印在晶圆表面，这个过程与照相机底片曝光是一样的原理，所以台湾称之为曝光

曝光在不同的制程中有不同的曝光设备，其实在PCB、TFT-LCD、MEMS、DRAM、晶圆代工、三五族化合物芯片、LED、太阳能等多个领域都需要用到曝光机，原理都是一样的，差别就在于光源不同，分辨率不同。

目前全球最先进的曝光机是荷兰ASML公司的EUV设备，使用13.5nm极紫外波长镭射光源，可以实现5nm及以下的分辨率。

半导体工艺涂完胶不能立马显影是因为需要曝光过程。根据查询相关公开信息显示，光刻工艺是半导体元件制作中的常用工艺，通过在半导体基片(如硅晶圆)表面涂敷一定厚度的光刻胶，然后进行曝光，才能显影，以对基片表面的材料做图形化处理。

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