7nm芯片迎来突破！国产半导体逆势崛起，打破日美垄断

一直以来，半导体行业都是国内产业生产的薄弱之处，很多技术都依赖于外企。

像EUV光刻机、芯片核心制造技术以及高端光刻胶等方面，但同样我们在芯片设计、封测技术等方面也占据了世界前列的位置。

如今，随着局势的变化，华为因芯片断供产生的后续影响已经初步显现，它让国产其他相关企业认识到只有自己掌握了核心技术才能避免在这些方面受到技术上的"卡脖子"。

11月13日，根据新浪 财经 最新报道，国内光刻胶领域迎来好消息，对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。消息显示，国内宁波南大光电材料有限公司已正式宣布，首条ArF光刻胶生产线已经正式投入生产，预计项目完成后年销售额达10亿元。

目前该公司已经将生产出来的ArF光刻胶样品送至客户手中进行测试，如果测试成功，那么该公司将迎来更多ArF光刻胶方面的订单。

或许有小伙伴不太了解ArF光刻胶。

光刻胶在芯片生产中起到很关键的作用，可以说它是集成电路产生制造中的核心材料，对于芯片最终呈现的质量和性能方面都有很大的影响，因而光刻胶的成功对于生产制造芯片也有很大的帮助。

目前来说，虽然国内不乏有主营光刻胶的企业，但在ArF光刻胶这样的高端种类却几乎100%依赖于外企，而ArF光刻胶在对于28nm-7nm工艺芯片的生产起到至关重要的作用，因而可以说这一次在ArF光刻胶上的突破也预示着在7nm芯片制造上迎来突破！

根据资料显示，目前高端光刻胶主要集中于美企和日企手中，所占份额达全球光刻机份额的95%，而这一次宁波南大光电材料有限公司在ArF高端光刻胶中的突破也预示着国产半导体的逆势崛起，将打破美日企业在高端光刻胶领域上的垄断。

不过，想要避免外资企业在技术上的垄断，光靠一家公司明显后劲不足，但就如今的发展趋势来说，目前国产半导体相关企业已经纷纷在各自的领域中寻找突破之路。

上海微电子、上海华虹半导体、晶瑞股份等公司在芯片生产工艺上以及光刻机上等方面寻求突破口，照这样的趋势发展，未来国产半导体行业将迎来新生！

芯片制造是一项繁琐，复杂的过程，大家只知道光刻机对芯片制造十分重要，可实际上光刻胶材料也是芯片制造中不可或缺的。日本掌握光刻胶核心市场，多年来占据垄断地位。一旦日本光刻胶供应紧张，就会对供应链造成连锁反应。

好在国产光刻胶厂商上海新阳传来好消息，其正式官宣，公司已有ArF光刻胶产品。上海新阳已有ArF光刻胶产品意味着什么？国产光刻胶又处于怎样的发展状况呢？

国产芯片供应链是相对完善的，很多关键的产业链环节在国内都可以找到，涉及芯片设计、光刻机四大件供应商和整机光刻机制造商。除此之外，在半导体芯片材料方面，国产光刻胶也有多家厂商参与其中，比如上海新阳就是其中之一。

上海新阳主营晶圆超纯化学材料产品，也就是光刻胶，除此之外上海新阳还在开拓氮化硅蚀刻液，掌握诸多核心技术。

值得一提的是，上海新阳在去年3月8日发布公告称，购得了一台ASML-1400光刻机设备，对加速研发193nmArF干法光刻胶产品有诸多益处。

时隔一年，相信上海新阳已经凭借这台光刻机获得了不小的研发进展，那么上海新阳有何突破呢？根据上海新阳回答提问得知，该公司已经掌握了ArF光刻胶产品，受各方面影响认证进度较慢，但已有部分光刻胶产品获得订单。

这句话的重点是掌握ArF光刻胶产品，在光刻胶产品市场中，有分为g线、i线、KrF和ArF等光刻胶品类，最高端的则是EUV光刻胶。

作为芯片制造时用于涂抹晶圆硅片的重要化学材料，可以起到保护衬底基座的作用，对芯片制造非常重要。只不过在这些产线中的光刻胶产品，一直被信越化学、东京应化、富士胶片等诸多日企掌握垄断地位。就连台积电也需要大量从日本采购光刻胶材料。

尤其是ArF光刻胶，更是重中之重。有一定了解的人都知道，ArF光刻胶产品可以用在90nm到14nm甚至是7nm工艺节点的芯片制造工艺。

如果攻克高端ArF光刻胶核心技术，那么将占据芯片制造产业链市场的关键地位。现在台积电、中芯国际、三星等芯片制造商都在加紧芯片制造产能，纷纷扩建，新建芯片工厂。

未来对光刻胶的需求还会更大。而这时候，上海新阳传来消息，正式官宣掌握了ArF光刻胶，无疑是件喜事。既然知道了光刻胶的作用和市场地位，那么上海新阳已有ArF光刻胶产品意味着什么？

大家对上海新阳的了解可能并不是很多，但只要有关注国产光刻胶的发展情况，上海新阳都是不可忽视的。

该公司开展多个重要的光刻胶研发生产项目，面向高端也有展开布局，而这些布局，很大层面上是靠ArF光刻胶展开的。国产芯片正值产能加速之际，中芯国际手中还有三大芯片工厂建设项目，以及长江存储，闻泰 科技 等诸多巨头纷纷加快半导体动作。

而现在上海新阳已有ArF光刻胶产品，意味着对国产芯片制造产业将起到加速自主化的作用。

而且上海新阳的这项ArF光刻胶产品事关国产7nm芯片，前面提到ArF光刻胶可用于7nm工艺节点，我国在7nm芯片制造产业链中并非没有布局，甚至还下探到了更先进的5nm。

比如中微半导体的刻蚀机就可成功刻蚀5nm芯片，在芯片设计层面也有一些国产5nm订单作为需求支撑。

所以上海新阳将来如果能彻底攻克7nm制程节点的ArF光刻胶，必然有利于国产7nm芯片的发展。解决了一个问题，再去解决第二个，第三个，按这种趋势发展下去，迈入最终一步也并非不可能。

虽然上海新阳并没有透露已有的ArF光刻胶是处在多少纳米水准，也许是55nm，也许是28nm，甚至是14nm都有可能。如果情况再好一些，上海新阳又取得了重大科研进展，触碰到7nm ArF光刻胶也未必没有可能。

除去上海新阳这次传来的好消息，让大家知道了这家公司有怎样的业务情况，那么国产光刻胶又处于怎样的发展状况呢？总的来看，可能暂时达不到日本光刻胶垄断产业的水准，但已经有很多国产光刻胶厂商不断取得进步。

比如南大光电在ArF多个技术节点实现认证，重要项目通过国家级专家组验收。还有晶瑞电材的193nm ArF光刻胶研发工作已经展开。彤程新材的KrF光刻胶已实现批量供货。其余的广信材料，飞凯材料等等国产光刻胶厂商均有各自的进展。

这些国产企业相对集中在中低端光刻胶市场，而在中端已经有南大光电，上海新阳成为主力。至于高端的EUV光刻胶，目前仍处在进口阶段。

国产光刻胶和诸多核心半导体技术一样，都是需要长期耕耘和努力付出的。日本能在光刻胶领域取得这般地位，同样是靠几十年的积累。所以不需要气馁，相信只要不断取得进步，一定能实现厚积薄发。

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虽然目前特朗普已经下台，但是他执政期间颁布的芯片断供政策所造成的影响却仍存在。以目前来说，美国推行的芯片断供政策可谓是“一石四鸟”，当这一政策出台后，率先受到影响的无疑是被美国针对的中国企业；紧跟其后的却是因流失中国买家，导致芯片大量囤积，造成经济损失严重的美国芯片企业；随着该政策的影响的不断扩散，欧洲半导体行业也惨遭波及；此外，近段时间里包括大众、本田、福特在内的8家 汽车 巨头也齐齐发声，由于芯片供应短缺，将暂停部分 汽车 生产线。

诚然，中美间的“芯片贸易战”已经演变成“全球芯片大战”。在这一情况下，为了摆脱对美国芯片的高度依赖，打破美国在芯片领域的垄断，中国及欧盟诸多国家在芯片自主研发方面进一步加大推行力度。据新华 财经 1月25日报道，2021年，上海将争取实现12nm芯片先进工艺的规模量产。现阶段，汇聚在上海的芯片企业有中芯国际、华为海思、紫光等。其中，2000年正式成立的中芯国际的总部就坐落于上海，经过多年来的不断发展，中芯国际已经成为了国内芯片制造的巨头企业。

据了解，中芯国际在12nm芯片工艺方面已经取得了较大突破。去年12月，中芯国际表示，将在2020年底小批量试产第二代FinFETN+1芯片。据悉，第二代FinFETN+1芯片工艺正是达到了12nm，与一代14nm芯片相比，前者的晶体管尺寸进一步缩减，功耗与错误率均降低20%，总体性能则是提升10%。

此外，报道指出，2020年7月，国家相关部门为助力上海芯片产业的发展宣布投资1600亿元人民币。相信在国家的支持和帮助及中芯国际等巨头企业的助力下，上海实现12nm芯片先进工艺的规模量产目标将指日可待，这也意味着中国国产芯片的发展将有望迈上新的台阶。

同样，与中国一样致力于发展本国半导体产业技术研发的还有欧盟国家。受到美国芯片断供政策的影响，欧盟芯片企业无法正常对华为等中企出售芯片，导致这些公司的销售业绩出现严重下滑。为了在全球半导体产业争取到更多的话语权，包括法国、德国在内的17个欧盟国家在去年12月25日表示，为推动欧洲半导体产业的技术研发进程，将在未来2-3年内投资1450亿欧元（约合人民币1.14万亿元）。

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